[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在审

专利信息
申请号: 201710046671.5 申请日: 2008-12-18
公开(公告)号: CN106986792A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C07C303/32 分类号: C07C303/32;C07C309/17;C07C381/12;C07D493/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 葛凡
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 新型 化合物 及其 制造 方法 产酸剂 抗蚀剂 组合 以及 图案 形成
【权利要求书】:

1.一种化合物,其由下述通式(b0-1-12)表示,

式中,Rc为包含选自-O-、-C(=O)-O-、-S-、-S(=O)2-及-S(=O)2-O-中的至少一种的碳原子数为5~20的烃基;Q4为单键或亚烷基;n为1;Y1是碳原子数为1~4的亚烷基或氟代亚烷基;R3~R6分别独立地为氢原子或可以具有取代基的烃基,R3~R6中的至少1个为所述烃基,R3~R6中的至少2个可以分别键合成环。

2.一种化合物的制造方法,其包括:通过使下述通式(1-13)表示的化合物(1-13)与铵盐反应来得到下述通式(1-14)表示的化合物(1-14)的工序,

式中,Rc是包含选自-O-、-C(=O)-O-、-S-、-S(=O)2-及-S(=O)2-O-中的至少一种的碳原子数为5~20的烃基;

Q4是单键或亚烷基,n为1;

Y1是碳原子数为1~4的亚烷基或氟代亚烷基;R3~R6分别独立地为氢原子或可以具有取代基的烃基,R3~R6中的至少1个为所述烃基,R3~R6中的至少2个可以分别键合成环;M+为碱金属离子。

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