[发明专利]一种氟化二硅化钛的合成方法有效
申请号: | 201710048443.1 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN106744982B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 张春勇;郑纯智;程洁红;罗青薇;文颖频;秦恒飞;刘维桥;舒莉;周月;赵德建;张国华 | 申请(专利权)人: | 江苏理工学院 |
主分类号: | C01B33/10 | 分类号: | C01B33/10;C01B3/04;B01J27/135 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 李杰 |
地址: | 213001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氟化 二硅化钛 合成 方法 | ||
本发明属于化学合成技术领域,具体涉及一种氟化二硅化钛的合成方法,所述方法包括以下步骤:(1)将单质钛、硅和氯化锌研磨,混合均匀后,在氩气气氛中反应,得到前驱硅化钛,然后进行步骤(2)或步骤(3)处理;(2)将前驱硅化钛与氟化物研磨混合,进行煅烧反应;(3)将前驱硅化钛与氟化物水溶液混合,进行水热反应;(4)将步骤(2)或步骤(3)反应完成的产物经水洗、干燥即得氟化二硅化钛。本发明的合成方法成功制备了高活性氟化二硅化钛,其光催化活性高。
技术领域
本发明属于化学合成技术领域,具体涉及一种氟化二硅化钛的合成方法。
背景技术
1972年Fujishima和Honda用紫外光照射光阳极TiO2,在光电化学电池中首次将水光催化分解为H2和O2,开启了半导体光催化的研究序幕[A.Fujishima,K.Honda,Nature,238(1972)37]。二硅化钛(TiSi2)由于具有热稳定性、高导率、宽能隙(1.5eV-3.4eV)、单电子隧穿特性等特点而被引起广泛关注,其光响应波长为360nm-800nm,从近紫外区扩大到可见光范围。Peter Ritterskamp等第一次使用TiSi2为催化剂光催化分解水[Ritterskamp P等.Angewandte Chemie International Edition.2007;46:7770],但是单独使用二硅化钛为催化剂时催化活性低。Yongjing Lin报道了通过CVD和ALD过程制备TiO2/TiSi2[Lin Y等.Journal of the American Chemical Society.2009;131:2772-3],此方法要用到贵重精密的仪器设备,也无法大批量生产。MouZ等合成了RuO2/TiSi2/RGO并用于光催化产氢反应[Mou Z等.Phys Chem Chem Phys.2013;15:2793-9],但是该制备过程使用了贵金属,产品成本较高。开发经济的高活性二硅化钛技术具有十分重要的意义。
发明内容
本发明主要提供了一种氟化二硅化钛的合成方法,成功制备了高活性氟化二硅化钛,其光催化活性高。其技术方案如下:一种氟化二硅化钛的合成方法,包括以下步骤:
(1)将单质钛、硅和氯化锌研磨,混合均匀后,在氩气气氛中反应,得到前驱硅化钛;
(2)将前驱硅化钛与氟化物研磨混合,进行煅烧反应,或将前驱硅化钛与氟化物水溶液混合,进行水热反应;
(3)将反应完成的产物经水洗、干燥即得氟化二硅化钛。
优选的,步骤(1)中钛、硅和氯化锌的摩尔比为1:2:(0.01-1)。
优选的,步骤(1)中反应温度为900-1300℃,反应时间为0.5-4h。
优选的,步骤(2)中前驱硅化钛和氟化物的摩尔比为1:0.001-10。
优选的,步骤(2)中煅烧反应温度为200-600℃,时间为0.5-4h。
优选的,步骤(2)中水热反应温度为10-220℃,时间为0.5-4h。
优选的,所述氟化物为HF、NaF、CaF2和NH4F中的一种或几种。
采用上述氟化二硅化钛的合成方法,本发明具有以下优点:
本发明采用全新的方法制备氟化二硅化钛,该工艺方法反应时间短,工艺简单,制备的氟化二硅化钛相较于前驱硅化钛,其光催化活性可以提高到3倍以上,光催化活性高,可以广泛的用于光催化产氢反应中。
附图说明
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