[发明专利]Ni‑W‑P‑纳米SiO2化学复合镀层的制备方法在审
| 申请号： | 201710049147.3 | 申请日： | 2017-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN106835089A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 姜世杭 | 申请（专利权）人： | 扬州大学 |
| 主分类号： | C23C18/50 | 分类号： | C23C18/50 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心32203 | 代理人： | 吴茂杰 |
| 地址： | 226009 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ni 纳米 sio2 化学 复合 镀层 制备 方法 | ||
1.一种Ni-W-P-纳米SiO2化学复合镀层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(10)硅溶胶制备：将硅粉加入蒸馏水中，活化，加入氢氧化钠溶液，强烈搅拌，反应充分后，在搅拌的条件下冷却到50℃以下，静置后减压抽滤，得到硅溶胶；
(20)化学镀液配制：按如下配比配制化学镀液，硫酸镍23g/L、钨酸钠15g/L、次亚磷酸钠25g/L、柠檬酸钠75g/L、乳酸50ml/L、氯化铵30g/L，溶剂为蒸馏水；
(30)复合镀液混合：将化学镀液加入硅溶胶中，并加水配至所需的量，用氨水调节混合溶液的pH值至弱碱性，再升温至30℃～35℃。
(40)镀层生成：将表面打磨、除油、除锈、清洗及活化后的基体材料，置于复合镀液中施镀，得到Ni-W-P-纳米SiO2复合镀层。
2.根据权利要求1所述的化学复合镀层的制备方法，其特征在于，所述(10)硅溶胶制备步骤中，硅粉加入量为300g/L，氢氧化钠溶液浓度为0.23g/L。
3.根据权利要求1所述的化学复合镀层的制备方法，其特征在于，所述(10)硅溶胶制备步骤中，强烈搅拌后的反应时间为8小时，反应温度为90℃。
4.根据权利要求1所述的化学复合镀层的制备方法，其特征在于，所述(30)复合镀液混合步骤中，混合溶液的pH值调至9～10。
5.根据权利要求1所述的化学复合镀层的制备方法，其特征在于，所述(40)镀层生成步骤中，基体材料置于复合镀液中施镀的时间为120分钟。
6.根据权利要求1所述的化学复合镀层的制备方法，其特征在于，所述(40)镀层生成步骤中，基体材料采用体积百分比浓度为5％的HCl溶液浸渍活化。
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