[发明专利]日冕仪外掩体位置测量系统及位置测量方法

权利要求书

1.日冕仪外掩体位置测量方法，基于日冕仪外掩体位置测量系统而实现，其特征在于，

日冕仪外掩体位置测量系统包括日冕仪，日冕仪的物镜正前方安装有外掩体，外掩体与支撑杆连接，所述支撑杆通过二维平移和二维倾斜调节装置安装在日冕仪镜筒上，且支撑杆在镜筒截面内与镜筒轴垂直；所述测量系统还包括激光回馈干涉系统，激光回馈干涉系统测量光路和参考光路出光侧分别发射测量光和参考光，沿参考光路出光侧设置有参考光路反射镜，沿测量光路出光侧设置有测量光路反射镜；

所述测量方法包括日冕仪外掩体位移测量方法，包括以下步骤：

调整激光回馈干涉系统的位置，调整参考光路反射镜和测量光路反射镜，使参考光和测量光分别入射到支撑杆的两个侧面上，反射后使参考光和测量光沿原光路返回形成激光回馈；

沿测量光入射方向调整支撑杆位置，激光回馈干涉系统测得测量光路长度改变量为Δl_x，即外掩体位移变化值为Δl_x，每次改变支撑杆位置后，测量日冕仪视场中外掩体边缘衍射光光强，直至外掩体边缘衍射光光强达到极小值；

沿参考光入射方向调整支撑杆位置，激光回馈干涉系统测得参考光路长度改变量为Δl_y，即外掩体位移变化值为-Δl_y，每次改变支撑杆位置后，测量日冕仪视场中外掩体边缘衍射光光强，直至外掩体边缘衍射光光强达到极小值。

2.如权利要求1所述的日冕仪外掩体位置测量方法，其特征在于，参考光和测量光相互垂直，分别入射到支撑杆两个相互垂直的侧面上，且两侧面分别垂直于所述二维平移装置的两个位移方向。

3.如权利要求1所述的日冕仪外掩体位置测量方法，其特征在于，改变日冕仪所处的环境温度或振动测试条件，通过激光回馈干涉系统获取外掩体的位置变动信息。

4.日冕仪外掩体位置测量方法，基于日冕仪外掩体位置测量系统而实现，其特征在于，日冕仪外掩体位置测量系统包括日冕仪，日冕仪的物镜正前方安装有外掩体，外掩体与支撑杆连接，所述支撑杆通过二维平移和二维倾斜调节装置安装在日冕仪镜筒上，且支撑杆在镜筒截面内与镜筒轴垂直；所述测量系统还包括激光回馈干涉系统，激光回馈干涉系统测量光路和参考光路出光侧分别发射测量光和参考光，沿参考光路出光侧设置有参考光路反射镜，沿测量光路出光侧设置有测量光路反射镜；

所述测量方法还包括日冕仪外掩体倾角测量方法，包括以下步骤：

调整激光回馈干涉系统的位置，调整参考光路反射镜和测量光路反射镜，使参考光和测量光均入射到外掩体的盘面上，反射后使参考光和测量光沿原光路返回形成激光回馈，记录参考光和反射光在外掩体盘面上形成的两个测量光点之间的距离D；

使参考光和测量光在外掩体盘面上的两个测量光点沿支撑杆延长线的方向，以沿外掩体盘面垂直于支撑杆的方向为转轴调整外掩体的倾角，由激光回馈干涉系统测量倾斜后测量光路相对于参考光路的长度变化为Δl_x，计算倾斜角：Δθ_x＝arctan(Δl_x/D)；每次改变外掩体的倾角，测量日冕仪视场中外掩体边缘的衍射光强，直至边缘衍射光光强达到极小值；

使参考光和测量光在外掩体盘面上的两个测量光点沿垂直于支撑杆的方向，以平行于支撑杆方向为转轴调整外掩体的倾角，由激光回馈干涉系统测量倾斜后测量光路相对于参考光路的长度变化为Δl_y，计算倾斜角：Δθ_y＝arctan(Δl_y/D)；每次改变外掩体的倾角，测量日冕仪视场中外掩体边缘的衍射光强，直至边缘衍射光光强达到极小值。

5.如权利要求4所述的日冕仪外掩体的位置测量方法，其特征在于，改变日冕仪所处的环境温度或振动测试条件，通过激光回馈干涉系统获取外掩体的倾角变动信息。