[发明专利]曝光机

说明书

本发明提供一种曝光机，包括用于承载基板的曝光平台、设于曝光平台两侧的平台导轨、及设于所述平台导轨上的偶数个过滤装置；所述偶数个过滤装置通过在曝光平台两侧形成负压而产生向曝光平台外的气流以将废物排出，与现有技术在曝光室顶棚设置过滤装置而产生向上的气流将废物排出的方式相比，本发明的曝光机，通过在平台导轨上设置过滤装置，产生接近水平的气流而将废物排出，能够有效避免光刻胶产生的挥发物在向上流动过程中凝结在基板上方的光学器件上而降低曝光精度的问题，且过滤效果良好，能够为曝光制程提供良好的曝光环境，进而提高了产品良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

在LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)LCD和AMOLED(Active-matrix Organic Light-Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管显示器件)的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将掩膜上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。

图1为现有技术中曝光机的结构示意图，如图1所示，曝光机包括用于承载基板50的曝光平台(Plate Stage)11、设于曝光平台两侧的导轨12、及设于所述曝光平台11上方的照明系统13，及设于照明系统13与曝光平台11之间的掩膜14，所述曝光平台11与导轨12滑动连接，所述曝光平台11可沿所述导轨12往复移动，曝光过程中，基板50放置于曝光机的曝光平台50上；由于基板50上光刻胶在曝光过程中会产生挥发，因此曝光室的顶棚上通常会设有过滤装置，通过产生向上的气流，将光刻胶的挥发物等杂质进行排出，但是顶棚上设置的过滤装置的过滤效果并不明显，如图1所示的曝光机为投影式的曝光机，掩膜14下方还设有光学镜组15，该照明系统13、掩膜14、及光学镜组15共同构成了投影系统18，对于投影式的曝光机，投影系统18产生包含图案信息的出射光对其下方的基板50进行曝光；那么该光刻胶的挥发物在向上排出的过程中很容易在光学镜组15上凝结雾化，从而容易造成产品Mura，严重时造成极小线宽曝光异常。另外曝光平台11在导轨12中作往复滑动以搬运基板50的过程中，曝光平台11与导轨12之间也会产生摩擦，因而不可避免地会产生摩擦屑等杂质颗粒(Particle)，同样顶棚上设置的过滤装置并不能够有效将其排出，那么这些杂质颗粒会影响曝光制程的环境，导致产品良率的下降。

因此，有必要提供一种曝光机，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光机，设有过滤装置，过滤效果良好，能够为曝光制程提供良好的曝光环境，进而提高了产品良率。

为实现上述目的，本发明提供一种曝光机，包括用于承载基板的曝光平台、设于曝光平台两侧的平台导轨、及设于所述平台导轨上的偶数个过滤装置；

每一过滤装置包括过滤腔体，所述过滤腔体面向曝光平台的一侧面上设有进气口，背向曝光平台的一侧面上设有排放口；

所述偶数个过滤装置对称分布于所述曝光平台两侧；所述偶数个过滤装置通过在曝光平台两侧形成负压而产生向曝光平台外的气流，从而将废物排出。

每一过滤装置还包括设于过滤腔体内的滤芯。