[发明专利]一种低温硫化氢气敏材料及制备方法有效

专利信息
申请号: 201710052874.5 申请日: 2017-01-24
公开(公告)号: CN106885830B 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 崔光亮;张品华;张杰;王晓丽;陈丽 申请(专利权)人: 临沂大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;B82Y30/00;B82Y40/00;C25B1/00;C25D5/54;C25D9/04
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 董宝锞
地址: 276005 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 低温 硫化 氢气 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种低温硫化氢气敏材料,其特征在于:所述低温硫化氢气敏材料是由连续分布的Cu2O和周期性间隔分布的Co3O4构成的纳米线周期性阵列结构。

2.根据权利要求1所述的低温硫化氢气敏材料,其特征在于:所述低温硫化氢气敏材料是基于Cu2O与Cu2O-Co3O4复合物的横向周期性异质结构有序阵列材料。

3.一种权利要求1所述的低温硫化氢气敏材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)采用去离子水、Cu(NO3)2和Co(NO3)2电解质原材料配置电解液;

(2)在控温生长室内,以表面氧化处理的硅片或玻璃片作为基底,把两片铜箔片电极平行的放在基底上面,在两电极间滴加电解液,盖上盖玻片;

(3)用控温生长室内的制冷元件将电解液制冷结冰,并保持恒温状态放置20-40分钟;

(4)在电极上施加半正弦波形沉积电压使电解质沉积;

(5)沉积结束后取出基底并用去离子水清洗,得到附着在基底上的Cu2O/Co3O4基低温H2S气敏材料。

4.根据权利要求3所述的低温硫化氢气敏材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)中去离子水:Cu(NO3)2:Co(NO3)2=5mL:6mM:3mM。

5.根据权利要求4所述的低温硫化氢气敏材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述的电解液pH值为3.5-4.5。

6.根据权利要求5所述的低温硫化氢气敏材料的制备方法,其特征在于:步骤(2)所述的控温生长室内温度为-4.5℃。

7.根据权利要求6所述的低温硫化氢气敏材料的制备方法,其特征在于:步骤(4)所述的电压幅度为0.5V-1.5V,周期性电压频率为0.2-1.2Hz。

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