[发明专利]一种曝光装置有效

专利信息
申请号: 201710055343.1 申请日: 2017-01-22
公开(公告)号: CN107065445B 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 胡俊艳 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 装置
【说明书】:

发明提供一种曝光装置,其包括挡板组件和透镜组件,所述挡板组件设有曝光孔;所述透镜组件设置在所述挡板组件与待曝光基板之间,所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域。该曝光装置可以较高曝光精确度,提升待曝光基板的曝光品质。

技术领域

本发明涉及光学加工技术领域,尤其涉及一种曝光装置。

背景技术

使用曝光机进行曝光时,一般需要使用挡板,挡板中设有曝光孔,光源将对产品中与该曝光孔正对应的区域进行曝光,从而在产品上形成所需的图形。然而,光在直线传播过程中遇到挡板会发生衍射现象,即在曝光孔的侧边处发生衍射,产品中与衍射区对应的区域也会存在一定程度的曝光,这就导致产品的实际制作形状与所需的形状差异较大,大大降低曝光机的曝光精确度,同时影响产品的质量。

故,有必要提供一种曝光装置,以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明提供一种曝光装置,以解决因挡板中曝光孔侧边产生衍射光而使得产品中不需要曝光的地方被曝光,进而降低曝光精确度的技术问题。

本发明实施例提供一种曝光装置,用于对待曝光基板进行曝光,其包括:挡板组件和透镜组件,所述挡板组件设有曝光孔;所述透镜组件设置在所述挡板组件与所述待曝光基板之间,所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述透镜组件置于所述曝光孔的侧边对应的衍射区;所述透镜组件包括沿所述曝光孔的轴向方向间隔设置的第一透镜和第二透镜,所述第一透镜和第二透镜均为凸透镜沿其主光轴切割形成的半透镜结构;所述挡板组件设置在所述第一透镜的焦距上,所述待曝光基板设置在所述第二透镜的焦距上。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述第一透镜和第二透镜的切割面均与所述曝光孔的侧边相齐平。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述第一透镜的焦距和所述第二透镜的焦距相等。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述挡板组件为一个平板,所述挡板组件中设有所述曝光孔。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述挡板组件包括至少两个可移动的挡板,至少两个所述挡板围成所述曝光孔。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述第一透镜和第二透镜的直径均与所述曝光孔的侧边的长度相同。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述第一透镜和第二透镜的直径均与所述挡板的侧边的长度相同。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述曝光装置还包括固定支架,所述固定支架用于固定所述挡板组件与所述透镜组件,以使得所述挡板组件与所述透镜组件形成整体结构。

在本发明实施例提供的曝光装置中,所述第一透镜和第二透镜的材质包括聚甲基丙烯酸甲酯。

本发明提供了一种曝光装置,其通过在所述挡板组件与待曝光基板之间设置所述透镜组件,使得所述透镜组件可以将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域,从而提高曝光装置的曝光精确度,提升待曝光基板的曝光品质。

附图说明

图1为本发明实施例提供的曝光装置中挡板组件的俯视结构示意图;

图2为图1中所示的挡板组件沿箭头A-A方向的截面示意图;

图3为本发明实施例提供的曝光装置中挡板组件的另一结构示意图;

图4为本发明实施例提供的曝光装置的截面结构示意图;

图5为图4所示的曝光装置中挡板组件与透镜组件的位置关系俯视示意图。

具体实施方式

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