[发明专利]旋转x射线发射靶以及具有该旋转x射线发射靶的x射线枪

权利要求书

1.一种用于在电子束照射下生成x射线辐射的旋转x射线发射靶，包括：

支撑毂，所述支撑毂限定所述靶的预定的旋转轴，以及

多个靶板，所述多个靶板各自由靶材料构成并且被支撑在所述支撑毂上，其中，所述靶板被布置在所述支撑毂上，以提供绕旋转轴的环形靶区域，其中：

所述支撑毂具有厚度相对减小的第一径向内区域和厚度相对增加的第二径向向外区域；

所述第二径向向外区域设置有用于冷却流体的多个径向延伸的通道；

所述第一径向内区域的相对减小的厚度限定了所述支撑毂的轴向面中的凹槽；并且

所述多个通道终止于所述凹槽的周向壁中提供的相应的端口，

所述凹槽形成在所述支撑毂的所述第二径向向外区域的径向向内的面中。

2.根据权利要求1所述的靶，其中，所述靶板被布置为在所述靶区域的周向方向上彼此间隔开，以使得所述靶区域的所述靶材料在所述靶板之间被中断。

3.根据权利要求2所述的靶，其中，所述靶材料中的所述靶材料的所述中断表示不超过所述靶区域内的总周向路径的10％。

4.根据权利要求3所述的靶，其中，所述靶材料中的所述靶材料的所述中断表示不超过所述靶区域内的总周向路径的1％。

5.根据权利要求3所述的靶，其中，所述靶材料中的所述靶材料的所述中断表示不超过所述靶区域内的总周向路径的0.1％。

6.根据权利要求1所述的靶，其中，所述靶板重叠或者彼此邻接，以提供靶材料的实质上连续的靶区域。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，其中，所述靶板中的每一个靶板在所述靶板的相对径向向内位置处被锚定至所述支撑毂，并且相对于所述支撑毂径向向外伸出。

8.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，其中，所述靶板中的每一个靶板的形式为环形扇形部。

9.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，还包括被支撑在所述支撑毂上并且被布置为覆在所述靶区域的部分之上的多个屏蔽元件，靶板在所述靶区域的所述部分处邻接或重叠，或者在所述靶区域的所述部分处没有靶材料。

10.根据权利要求9所述的靶，其中，所述屏蔽元件被布置为覆在所述靶板的周向方向边缘部分之上。

11.根据权利要求10所述的靶，其中，所述屏蔽元件在所述靶区域内的位置处与所述靶板轴向地间隔开。

12.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，其中，所述靶区域中的所述靶板具有小于在750keV下所述靶材料中的电子穿透深度的200％的厚度。

13.根据权利要求12所述的靶，其中，所述靶区域中的所述靶板具有小于在750keV下所述靶材料中的所述电子穿透深度的150％的厚度。

14.根据权利要求12所述的靶，其中，所述靶区域中的所述靶板具有小于在750keV下所述靶材料中的所述电子穿透深度的125％的厚度。

15.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，其中，所述支撑毂具有用于将所述支撑毂安装至轴承以便绕所述旋转轴旋转的安装装置。

16.根据权利要求1至6中的任一项所述的靶，其中，所述多个通道被连接以便限定从所述凹槽的壁延伸并返回至所述凹槽的所述壁的至少一个连续流动路径。