[发明专利]x射线源、高电压发生器、电子束枪、旋转靶组件、旋转靶以及旋转真空密封件有效
申请号: | 201710058108.X | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN106935462B | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | R·哈德兰德 | 申请(专利权)人: | 尼康计量公众有限公司 |
主分类号: | H01J35/02 | 分类号: | H01J35/02;H01J35/04;H01J35/10;H02M1/32;H02M7/10;H05G1/12 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;王英 |
地址: | 比利*** | 国省代码: | 比利时;BE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 电压 发生器 电子束 旋转 组件 以及 真空 密封件 | ||
1.一种用于x射线源的旋转靶组件,所述组件包括:
x射线发射靶;
真空壳体;
轴,所述轴安装所述靶并且穿过所述真空壳体的壁;
轴承,所述轴承可旋转地支撑所述轴;以及
轴承壳体,所述轴承壳体支撑所述轴承,并且被安装在所述真空壳体的所述壁上,
其中,通过扭矩限制器将所述轴承壳体安装在所述真空壳体的所述壁上,以使得当所述轴承壳体与所述真空壳体之间的扭矩超过预定的扭矩时,所述轴承壳体相对于所述真空壳体旋转,
其中:
所述扭矩限制器包括在所述真空壳体与所述轴承壳体之间施加摩擦力并且被布置为容许所述真空壳体和所述轴承壳体在所述预定的扭矩下相对于彼此进行滑动的一部分;
所述轴承壳体和所述真空壳体中的一个具有法兰,而所述轴承壳体和所述真空壳体中的另一个具有夹钳组件;
所述夹钳组件被布置为将所述摩擦力施加于所述法兰;并且
所述夹钳组件包括被布置为接触所述法兰的一侧的能量吸收板、以及被布置为抵靠着所述能量吸收板推动所述法兰的夹钳。
2.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述能量吸收板是环形的。
3.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳包括作为夹钳部分的滚动轴承或滑动轴承,以允许所述法兰自由地抵靠着所述夹钳部分而滑动。
4.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳设置有偏置弹簧,以便设定夹钳力,其中借助所述夹钳力,所述法兰被抵靠着所述能量吸收盘推动。
5.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述法兰和所述能量吸收板中的至少一个沿着所述法兰和所述能量吸收板中的所述至少一个与所述法兰和所述能量吸收板中的另一个相接触的路径是周向连续的。
6.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳被安装至所述能量吸收板。
7.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,将所述法兰和所述能量吸收板被选择为在低于100℃的温度下是相互无磨损的。
8.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳组件被布置为在所述法兰与所述能量吸收板之间提供超过50kg的力。
9.根据权利要求8所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳组件被布置为在所述法兰与所述能量吸收板之间提供超过80kg的力。
10.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述夹钳组件被布置为在所述轴承壳体与所述真空壳体之间传递的扭矩已经超过所述预定的扭矩之后,将在所述轴承壳体与所述真空壳体之间传递的所述扭矩限制为低于10Nm。
11.根据权利要求1所述的旋转靶组件,其中,所述预定的扭矩小于10Nm。
12.一种用于x射线源的旋转靶组件,所述组件包括:
x射线发射靶;
真空壳体;
轴,所述轴安装所述靶并且穿过所述真空壳体的壁;
轴承,所述轴承可旋转地支撑所述轴;以及
轴承壳体,所述轴承壳体支撑所述轴承,并且被安装在所述真空壳体的所述壁上,
其中,通过扭矩限制器将所述轴承壳体安装在所述真空壳体的所述壁上,以使得当所述轴承壳体与所述真空壳体之间的扭矩超过预定的扭矩时,所述轴承壳体相对于所述真空壳体旋转,
其中:
所述扭矩限制器包括被布置为抑制所述真空壳体与所述轴承壳体之间的旋转并且被布置为在所述预定的扭矩下发生剪切的一部分。
13.根据权利要求12所述的旋转靶组件,其中,所述预定的扭矩小于10Nm。
14.一种x射线枪,包括:
电子束发生器、以及根据权利要求1至13中的任一项所述的旋转靶组件,所述旋转靶组件被布置为使得来自所述电子束发生器的电子束照射所述x射线发射靶的靶部分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尼康计量公众有限公司,未经尼康计量公众有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710058108.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种推杆式大功率电磁继电器
- 下一篇:用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备