[发明专利]x射线源、高电压发生器、电子束枪、旋转靶组件、旋转靶以及旋转真空密封件

权利要求书

1.一种用于在透射模式下并且在电子束照射下生成x射线辐射的旋转x射线发射靶，包括：

支撑毂，所述支撑毂限定所述靶的预定的旋转轴，以及

多个靶板，所述多个靶板各自由靶材料构成并且被支撑在所述毂上，其中，所述板被布置在所述毂上，以提供绕旋转轴的环形靶区域，

其中：

所述靶板中的每一个靶板在所述板的相对径向向内位置处被锚定至所述毂，并且相对于所述毂径向向外伸出。

2.根据权利要求1所述的靶，其中，所述靶板被布置为在所述靶区域的周向方向上彼此间隔开，以使得所述靶区域的所述靶材料在所述靶板之间被中断。

3.根据权利要求2所述的靶，其中，所述靶材料中的所述靶材料的所述中断表示不超过所述靶区域内的总周向路径的10％，优选地不超过所述靶区域内的所述总周向路径的1％，更优选地不超过所述靶区域内的所述总周向路径的0.1％。

4.根据权利要求1所述的靶，其中，所述靶板重叠或者彼此邻接，以提供靶材料的实质上连续的靶区域。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的靶，其中，所述靶板中的每一个靶板的形式为环形扇形部。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的靶，还包括被支撑在所述毂上并且被布置为覆在所述靶区域的部分之上的多个屏蔽元件，靶板在所述靶区域的所述部分处邻接或重叠，或者在所述靶区域的所述部分处没有靶材料。

7.根据权利要求6所述的靶，其中，所述屏蔽元件被布置为覆在所述靶板的周向方向边缘部分之上。

8.根据权利要求7所述的靶，其中，所述屏蔽元件在所述靶区域内的位置处与所述靶板轴向地间隔开。

9.根据权利要求6至8中的任一项所述的靶，其中，所述屏蔽元件由与所述靶材料相比具有显著更低的原子序数的原子或离子的材料而形成。

10.根据权利要求9所述的靶，其中，所述屏蔽元件由铍合金或铝合金形成。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的靶，其中，所述靶材料是钨或钨合金。

12.根据权利要求1至11中的任一项所述的靶，其中，所述靶区域中的所述靶板具有小于在750keV下所述靶材料中的电子穿透深度的200％的厚度，优选地具有小于所述电子穿透深度的150％的厚度，更优选地具有小于所述电子穿透深度的125％的厚度。

13.根据权利要求1至12中的任一项所述的靶，其中，所述毂具有用于将所述毂安装至轴承以便绕所述旋转轴旋转的安装装置。

14.一种x射线枪，包括：

电子束发生器、以及根据权利要求1至13中的任一项所述的x射线发射靶，所述x射线发射靶被可旋转地放置为使得来自所述电子束发生器的电子在所述靶旋转的同时照射所述环形靶区域的一部分。