[发明专利]基于芘和萘苯并呋喃的衍生物及其制备方法、应用和器件

权利要求书

1.基于芘和萘苯并呋喃的衍生物，其特征在于，其结构通式如下式(Ⅰ)所示：

其中，R₂、R₃分别独立的为2a-2f结构，R₂与R₃相同或不同：

R₁为苯基、氰基取代的苯基、C₁-C₅的烷氧基取代的苯基、联苯基、二苯并呋喃基、苯基取代的二苯并呋喃基、9,9-二甲基芴基、咔唑基、9-苯基咔唑基、1至6个C₁-C₃的烷基取代的联苯基、单C₁-C₃的烷基取代的二苯并呋喃基、单C₁-C₃的烷基取代的9,9-二甲基芴基或单C₁-C₃的烷基取代的咔唑基。

2.一种如权利要求1所述的基于芘和萘苯并呋喃的衍生物的制备方法，其特征在于：

为包括以下步骤的方法A：

与铃木反应，得到基于芘和萘苯并呋喃的衍生物；

或者，为包括以下步骤的方法B：

1)硼酸化，得到

2)与铃木反应后，再通过格式试剂化后烷基化，得到基于芘和萘苯并呋喃的衍生物；

或者，为包括以下步骤的方法C：

1)完全格式试剂化后再完全烷基化，得到二烷基化中间体；

2)二烷基化中间体单溴代后与铃木反应，得到基于芘和萘苯并呋喃的衍生物；

或者，为包括以下步骤的方法D：

1)与取代或未取代的芳香基硼酸单铃木反应后再与铃木反应，得到基于芘和萘苯并呋喃的衍生物；

或者，为包括以下步骤的方法E：

1)完全格式试剂化后再完全烷基化，得到二烷基化中间体；

2)二烷基化中间体双溴代后再依次与取代的或未取代芳基硼酸和铃木反应，得到基于芘和萘苯并呋喃的衍生物；

其中：

方法B中，烷基化得到的烷基取代基为2a-2f结构；

方法C中，二烷基化得到的两个烷基取代基分别独立的为2a-2f结构；

方法D中，取代的芳香基硼酸为氰基取代的苯基硼酸、C₁-C₅的烷氧基取代的苯基硼酸、联苯基硼酸、二苯并呋喃基硼酸、苯基取代的二苯并呋喃基硼酸、9,9-二甲基芴基硼酸、咔唑基硼酸、9-苯基咔唑基硼酸、1至6个C₁-C₃的烷基取代的联苯基硼酸、单C₁-C₃的烷基取代的二苯并呋喃基硼酸、单C₁-C₃的烷基取代的9,9-二甲基芴基硼酸或单C₁-C₃的烷基取代的咔唑基硼酸；

方法E中，二烷基化得到的两个烷基取代基分别独立的为2a-2f结构，取代的芳香基硼酸为氰基取代的苯基硼酸、C₁-C₅的烷氧基取代的苯基硼酸、联苯基硼酸、二苯并呋喃基硼酸、苯基取代的二苯并呋喃基硼酸、9,9-二甲基芴基硼酸、咔唑基硼酸、9-苯基咔唑基硼酸、1至6个C₁-C₃的烷基取代的联苯基硼酸、单C₁-C₃的烷基取代的二苯并呋喃基硼酸、单C₁-C₃的烷基取代的9,9-二甲基芴基硼酸或单C₁-C₃的烷基取代的咔唑基硼酸。

3.一种根据权利要求1所述的基于芘和萘苯并呋喃的衍生物的应用，其特征在于：作为有机电致发光器件中电致发光层材料。

4.一种电致发光器件，包括一对电极和设置在该对电极之间的有机发光介质，其特征在于：所述有机发光介质中至少含有一种选自权利要求1所述的衍生物。