[发明专利]擦拭机构有效

专利信息
申请号: 201710059877.1 申请日: 2017-01-24
公开(公告)号: CN107369608B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 许耀廷;薛全萌 申请(专利权)人: 万润科技股份有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;B08B11/00;B08B1/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 喻学兵
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 擦拭 机构 使用 晶圆残胶 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种擦拭机构,包括:

一第一压抵组件,可受驱动作上下位移,设有一移擦头;

一拭材组件,设有一固定架,其上绕设有带状拭材;该固定架一侧设有一释材区,另一侧设有一卷收区,该拭材自该释材区绕经一擦拭区而至该卷收区被卷收;该擦拭区设有一第一导引臂以及一第二导引臂,该第一导引臂、该第二导引臂相靠近而保持一操作间距,并各设有一第一支撑轮、一第二支撑轮;

该第一压抵组件可受驱动以移擦头压抵绕跨于该擦拭区中该第一支撑轮、第二支撑轮间的该拭材抵于待施作工件表面进行清洁。

2.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该固定架设有一镂空的第一区间及一固定部,拭材组件以该固定部与设置该第一压抵组件的一压抵座架固设并受其连动,该第一压抵组件并位于该镂空的第一区间中。

3.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该固定架设有一温度传感器,其以一延伸杆上端的一固定座固设于一滑座上,该滑座设于固定架上一滑轨上,该温度传感器可嵌设于第一压抵组件上的一联结座处检测一加热件温度并随第一压抵组件同步位移。

4.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该释材区、卷收区其中之一设有受一驱动件驱动的卷绕拭材的卷轮,卷轮下方设有相隔间距的第一转向轮、第二转向轮,第一转向轮、第二转向轮间的下方设有一配重轮,配重轮与一设于一滑轨上的配重连动位移,其位移的行程间距受一组感测件所监测及控制。

5.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,与该释材区同侧的下方设有一沾液区,与卷收区同侧的下方设有一拉引区,在沾液区与拉引区间形成一擦拭区;拭材自该释材区绕经沾液区、擦拭区、拉引区而至卷收区被卷收。

6.如权利要求5所述擦拭机构,其特征在于,该沾液区设有一清洁液容器,其与一供液机构间设有管路联结,可自该供液机构获得清洁液的供给。

7.如权利要求6所述擦拭机构,其特征在于,该清洁液容器中设有一滚轮,该滚轮的圆周一部分沾浸于清洁液容器中,一部分显露于清洁液容器外。

8.如权利要求7所述擦拭机构,其特征在于,该沾液区中设有一近转轮,其近靠该清洁液容器,并于近转轮与清洁液容器上方,设有位于一摆架的第一活动轮,该摆架受一旋转驱动件驱动,使摆架可作旋摆而令第一活动轮可下移抵靠该清洁液容器上滚轮上周缘。

9.如权利要求5所述擦拭机构,其特征在于,该拉引区设有一受一驱动件驱动的可旋转拉引轮,该拉引轮邻侧设有一嵌抵轮,嵌抵轮设于一摆臂上,摆臂上设有插枢于固定架的枢销,摆臂受一弹性元件所拉引,在拔起枢销后,摆臂将受弹性元件拉引而嵌抵该拉引轮圆周。

10.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该第一支撑轮、第二支撑轮底缘共同维持一相同的水平高度。

11.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该第二导引臂的上方邻靠一拉引区的一拉引轮处设有一导引轮。

12.如权利要求1所述擦拭机构,其特征在于,该擦拭机构设于一晶圆残胶清洁装置中,该晶圆残胶清洁装置包括:以一机台由一龙门轨架分隔出一第一工作区以及一第二工作区;一检测机构,设于朝第一工作区的该龙门轨架一侧,对第一工作区中的待施作工件进行检视;一取放机构,设于机台该第一工作区,包括相隔间距设置的二夹座;一载台,设于机台该第二工作区可受驱动而位移于第一工作区、第二工作区间,并自取放机构承接待施作工件或将待施作工件交付取放机构;该擦拭机构,设于朝第二工作区的该龙门轨架一侧,该第一压抵组件可受驱动压抵拭材对载台上的待施作工件进行残胶清洁。

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