[发明专利]化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括基底存放腔室(1)、样品收集腔室(4)、反应腔室(2)、过渡腔室(3)及将基底料带由所述基底存放腔室(1)运送至所述样品收集腔室(4)的物料输送装置，所述基底存放腔室(1)、所述样品收集腔室(4)、所述反应腔室(2)和所述过渡腔室(3)形成密闭的输料通道，所述反应腔室(2)和所述过渡腔室(3)位于所述基底存放腔室(1)和所述样品收集腔室(4)之间，且所述反应腔室(2)至少为两个，相邻两个所述反应腔室(2)通过所述过渡腔室(3)间隔；

所述物料输送装置包括位于所述基底存放腔室(1)的第一卷绕传送装置(5)及位于所述样品收集腔室(4)的第二卷绕传送装置(6)。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述过渡腔室(3)包括沿基底运动方向间隔布置的通气腔(31)和抽气腔(32)，所述通气腔(31)设有通气进口，所述抽气腔(32)设有气体出口。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，所述过渡腔室(3)包括腔室主体，且所述腔室主体通过间隔装置(35)形成所述通气腔(31)和所述抽气腔(32)或；

所述通气腔(31)和所述抽气腔(32)为相互独立设置的装置。

4.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述通气腔(31)和所述抽气腔(32)之间设有隔热装置。

5.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述过渡腔室(3)还包括气体流量控制装置(33)，所述气体流量控制装置(33)与所述通气腔(31)连接。

6.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述过渡腔室(3)还包括抽气装置(34)，所述抽气装置(34)与所述抽气腔(32)连接。

7.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括用于支撑基底料带的基底支撑装置，所述基底支撑装置位于所述输料通道内。

8.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，沿基底运动方向，所述反应腔室(2)的长度与所对应的特定反应步骤所需时间成正比。

9.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述基底存放腔室(1)、所述样品收集腔室(4)、所述反应腔室(2)、所述过渡腔室(3)为一个腔室通过间隔装置(7)形成。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一卷绕传送装置(5)包括第一驱动电机及与所述第一驱动电机的输出轴连接的第一转动辊；所述第二卷绕传送装置(6)包括第二驱动电机及与所述第二驱动电机的输出轴连接的第二转动辊。