[发明专利]基板交接位置的示教方法和基板处理系统

权利要求书

1.一种基板交接位置的示教方法，其是对在输送装置的臂与处理装置的销之间交接基板之际的铅垂方向上的交接位置进行示教的方法，其特征在于，

该示教方法具有如下工序：

第1工序，在该第1工序中，使所述臂沿着水平方向的一方向移动；

第2工序，在该第2工序中，使所述臂或所述销从基准位置向铅垂方向的一方向移动预定距离；

第3工序，在该第3工序中，使所述臂沿着水平方向移动；

第4工序，在该第4工序中，使向所述铅垂方向的一方向移动后的所述臂或所述销向铅垂方向的另一方向移动所述预定距离以上；

第5工序，在该第5工序中，使所述臂沿着水平方向的另一方向移动，以对被所述臂保持着的所述基板相对于该臂的水平方向上的位置进行检测，

反复进行所述第1工序～所述第5工序这一系列工序，且每进行所述一系列工序就使所述第2工序中的所述基准位置向所述铅垂方向的一方向移动所述预定距离，将在所述第5工序中检测出的所述水平方向上的位置偏离了预定位置的情况下的、所述臂或所述销的铅垂方向上的位置示教为所述交接位置。

2.根据权利要求1所述的基板交接位置的示教方法，其特征在于，

在所述第2工序中，在所述基板支承于所述销的状态下，使所述臂向所述铅垂方向的一方向移动，

在所述第4工序之后且在所述第5工序之前，使所述臂向与所述第3工序中的移动方向相反的方向移动，之后，使所述臂向所述铅垂方向的一方向移动、或使所述销向所述铅垂方向的另一方向移动来利用所述臂保持所述基板。

3.根据权利要求1所述的基板交接位置的示教方法，其特征在于，

在所述第2工序中，在所述基板保持于所述臂的状态下，使所述臂向所述铅垂方向的一方向移动。

4.根据权利要求1所述的基板交接位置的示教方法，其特征在于，

在所述第2工序中，在所述基板保持于所述臂的状态下，使所述销向所述铅垂方向的一方向移动。

5.根据权利要求1所述的基板交接位置的示教方法，其特征在于，

在所述第2工序中，在所述基板支承于所述销的状态下，使所述销向所述铅垂方向的一方向移动，

在所述第4工序之后且所述第5工序之前，使所述臂向与所述第3工序中的移动方向相反的方向移动，之后，使所述销向所述铅垂方向的一方向移动、或使所述臂向所述铅垂方向的另一方向移动而利用所述臂保持所述基板。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板交接位置的示教方法，其特征在于，

所述第1工序～所述第5工序至少在真空气氛或加热气氛下进行。

7.一种基板处理系统，其包括：处理装置，其用于对基板进行处理；和输送装置，其用于在其与该处理装置之间输送基板，该基板处理系统的特征在于，

该基板处理系统具有：

销，其设于所述处理装置，用于支承所述基板，沿着铅垂方向移动自由；

臂，其设于所述输送装置，用于保持所述基板，沿着水平方向移动自由、或、沿着铅垂方向和水平方向移动自由；

位置检测机构，其用于对所述基板相对于所述臂的水平方向上的位置进行检测；

控制部，其用于对在所述销与所述臂之间交接所述基板之际的铅垂方向上的交接位置进行示教，

所述控制部对所述销、所述臂以及所述位置检测机构进行控制，以执行如下工序：第1工序，在该第1工序中，使所述臂沿着水平方向的一方向移动；第2工序，在该第2工序中，使所述臂或所述销从基准位置向铅垂方向的一方向移动预定距离；第3工序，在该第3工序中，使所述臂沿着水平方向移动；第4工序，在该第4工序中，使向所述铅垂方向的一方向移动后的所述臂或所述销向铅垂方向的另一方向移动所述预定距离以上；第5工序，在该第5工序中，使所述臂沿着水平方向的另一方向移动，以对被所述臂保持着的所述基板相对于该臂的水平方向上的位置进行检测，

反复进行所述第1工序～所述第5工序这一系列工序，且每进行所述一系列工序就使所述第2工序中的所述基准位置向所述铅垂方向的一方向移动所述预定距离，将在所述第5工序中检测出的所述水平方向上的位置偏离了预定位置的情况下的、所述臂或所述销的铅垂方向上的位置示教为所述交接位置。