[发明专利]一种曝光设备及曝光方法有效
申请号: | 201710061018.6 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108345179B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 侯宝路;周伟 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 补偿光源 曝光光源 曝光设备 投影物镜 曝光 快门 非对称像差 光源切换 遮光单元 基底 周期性切换 光源单元 光源分割 重复周期 误差源 成像 光源 遮挡 | ||
1.一种曝光设备,包括产生光源的光源单元、投影物镜及基底,其特征在于,还包括用于将所述光源分割为曝光光源和补偿光源的第一周期快门和设置于所述投影物镜和基底之间周期性遮挡所述补偿光源的周期遮光单元,所述第一周期快门对所述曝光光源和补偿光源进行周期性切换,实现曝光模式和投影物镜非对称像差补偿模式的周期性进行。
2.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,还包括设置在所述光源单元和投影物镜之间具有掩模图形的掩模板和第二周期快门,所述第二周期快门用于周期性遮挡所述掩模板,使得所述补偿光源周期性透过。
3.根据权利要求1或2所述的曝光设备,其特征在于,所述周期遮光单元采用周期挡光板,遮挡所述补偿光源时移动至所述投影物镜下方。
4.根据权利要求1或2所述的曝光设备,其特征在于,所述第一周期快门设置在所述光源单元和投影物镜之间。
5.根据权利要求1或2所述的曝光设备,其特征在于,所述光源单元包括沿光传播方向依次设置的照明光源、曝光快门、匀光耦合单元、石英棒和中继镜头组。
6.根据权利要求5所述的曝光设备,其特征在于,所述石英棒的截面为矩形。
7.根据权利要求5所述的曝光设备,其特征在于,所述石英棒包括曝光光源石英棒和补偿光源石英棒,所述补偿光源石英棒分设在曝光光源石英棒的两侧,所述曝光光源石英棒出射的光束为所述曝光光源,所述补偿光源石英棒出射的光束为所述补偿光源。
8.根据权利要求5所述的曝光设备,其特征在于,所述第一周期快门设置在所述匀光耦合单元和石英棒之间。
9.根据权利要求8所述的曝光设备,其特征在于,所述第一周期快门包括两个聚光凹面镜和两个反射镜,所述两个反射镜对称设置且成一定的夹角,并设置在所述两个聚光凹面镜夹面中间位置。
10.一种采用如权利要求1所述的曝光设备进行曝光的曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:
利用所述第一周期快门将所述光源切换为所述曝光光源实现正常曝光工作;再利用所述第一周期快门将所述光源切换至所述补偿光源,同时所述周期遮光单元遮挡透过所述投影物镜的光束,所述补偿光源对所述投影物镜进行非对称像差补偿;重复周期切换所述曝光光源和所述补偿光源。
11.根据权利要求10所述的曝光方法,其特征在于,还包括在所述光源单元和投影物镜之间设置具有掩模图形的掩模板和在所述掩模图形两侧设置第二周期快门,所述第二周期快门周期性沿所述掩模图形两侧往复运动,用于周期性遮挡入射至所述掩模板的所述补偿光源;
12.根据权利要求10或11所述的曝光方法,其特征在于,利用所述第一周期快门将所述光源切换为所述曝光光源具体为:打开所述第一周期快门,使所述第一周期快门遮挡所述光源两侧的光源,所述光源中间的光源形成为所述曝光光源;利用所述第一周期快门将所述光源切换至所述补偿光源具体为:关闭所述第一周期快门,使所述第一周期快门遮挡所述光源中间的光源,所述光源两侧的光源形成为所述补偿光源。
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