[发明专利]以压电材料为IC器件的高频RBT的栅极介电质的方法有效
申请号: | 201710061404.5 | 申请日: | 2017-01-26 |
公开(公告)号: | CN107039259B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | Z·克里沃卡皮奇;B·巴尔 | 申请(专利权)人: | 格罗方德半导体公司 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L29/423 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 英属开曼群*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压电 材料 ic 器件 高频 rbt 栅极 介电质 方法 | ||
1.一种形成集成电路器件的方法,其特征为,该方法包括:
形成包含多个传感RBT与驱动RBT的RBT于一半导体层的一上表面上,各该RBT包括一压电栅极介电层、一栅极、以及位于该压电栅极介电层的相对侧上与栅极上的一介电间隔,其中,至少一对传感RBT直接位于两组驱动RBT之间;
形成通过层间介电层分隔的多层金属层于该RBT上方;以及
形成通孔以通过该RBT上方的一介电层连接该RBT至一金属层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征为,该方法还包括:
形成一压电介电层于该半导体层中的源极/漏极区域的上方并相邻于各该介电间隔。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征为,该金属层为固体层并形成一一维声子晶体。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征为,该方法还包括:
分隔该金属层以形成一二维声子晶体。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征为,该方法还包括:
形成相邻于该驱动RBT的一组终端RBT。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征为,该方法还包括:
连接一DC栅极电压至各该传感RBT的一栅极,以于该传感RBT中生成一反转状态;以及
连接一DC电压与一RF信号的一组合至该传感RBT的一源极终端、一漏极终端、或上述两者的组合,其中,该RF信号的一相位为一相邻RBT的该RF信号的一相反相位。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征为,该DC栅极电压为一N型RBT的一正DC电压以及一P型RBT的一负DC电压。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征为,该方法还包括:
连接一DC电压至各该驱动BRT的一栅极;以及
连接一RF信号至该栅极或至一源极终端、一漏极终端、或上述的组合,其中,该RF信号的一相位为一相邻RBT的该RF信号的一相反相位。
9.一种集成电路器件,其特征为,该集成电路器件包括:
包含多个传感RBT与驱动RBT的RBT,其位于一半导体层的一上表面上,各该RBT包括一压电栅极介电层、一栅极、以及位于该压电栅极介电层的相对侧上与栅极上的一介电间隔,其中,至少一对传感RBT直接位于两组驱动RBT之间;
多层金属层,其通过层间介电层分隔并位于该RBT上方;以及
通孔,其通过该RBT上方的一介电层连接该RBT至一金属层。
10.根据权利要求9所述的集成电路器件,其特征为,该集成电路器件还包括:
一压电介电层,其位于该半导体层中的源极/漏极区域的上方并相邻于各该介电间隔。
11.根据权利要求9所述的集成电路器件,其特征为,该金属层为固体层并形成一一维声子晶体。
12.根据权利要求9所述的集成电路器件,其特征为,
该金属层是分段的,以形成一二维声子晶体结构。
13.根据权利要求12所述的集成电路器件,其特征为,该集成电路器件还包括:
一组终端RBT,其相邻于该驱动RBT。
14.根据权利要求9所述的集成电路器件,其特征为,该集成电路器件还包括:
一DC栅极电压,其连接至各该传感RBT的一栅极,以于该传感RBT中形成一反转状态;以及
一DC电压与一RF信号的一组合,其连接至该传感RBT的一源极终端、一漏极终端、或上述两者的组合,其中,该RF信号的一相位为相邻RBT的该RF信号的一相反相位。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造