[发明专利]用于刻蚀太阳能电池硅片表面的制绒液及其应用

权利要求书

1.一种用于刻蚀太阳能电池硅片表面的制绒液，所述制绒液既可以用于单晶硅片表面制绒也可以用于多晶硅片表面制绒，并且可以使单晶硅片或多晶硅片表面随机分布有倒四棱锥组，所述倒四棱锥组包括：

1)一种高与底边边长的比为1.2-1.5∶1之间的倒四棱锥；

2)和/或一种高与底边边长的比为1.9-2.3∶1之间的倒四棱锥；

3)和/或一种高与底边边长的比为2.5-3.1∶1之间的倒四棱锥；

4)和/或一种高与底边边长的比为3.2-3.7∶1之间的倒四棱锥；所述制绒液包含银离子、铜离子、HF和氧化剂；所述银离子源选自硫酸银和硝酸银中的一种或多种；所述铜离子源选自氯化铜、硫酸铜和硝酸铜中的一种或多种；所述氧化剂选自高锰酸钾、溴化钾、过硫酸盐和双氧水中的一种或多种；所述制绒液由0.5-10mmol/L的银离子、10-200mmol/L的铜离子、1-8mol/L的HF和0.1-8mol/L的氧化剂组成；在所述制绒液中，银离子和铜离子的摩尔比为1∶10-60；

所述制绒液的使用方法如下：将硅片放置于制绒液中，在室温下进行蚀刻，清洗去除金属离子即得。

2.根据权利要求1所述的制绒液，其特征在于，所述制绒液中包含1-10mmol/L的银离子、20-180mmol/L的铜离子、2-6mol/L的HF和0.3-5mol/L的氧化剂。

3.一种权利要求1或2所述制绒液在制备多晶或单晶硅片表面绒面结构中的应用。