[发明专利]一种樱桃苗木的培育方法在审

专利信息
申请号: 201710063368.6 申请日: 2017-02-03
公开(公告)号: CN106688632A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 张浩;张昆 申请(专利权)人: 北京皕富园生态农业有限公司
主分类号: A01G1/06 分类号: A01G1/06;A01G17/00
代理公司: 北京奥翔领智专利代理有限公司11518 代理人: 路远
地址: 101149 北京市通州*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 樱桃 苗木 培育 方法
【权利要求书】:

1.一种樱桃苗木的培育方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1:将考特原生砧木定植生长至一定高度后,在其没有木质化的部分剪下35-60cm的生长点;

S2:将步骤S1得到的生长点扦插在粗沙中,且该生长点在粗沙外留有3-6片叶子;

S3:采用定时微喷技术对步骤S2中的粗沙进行喷水20-40天后,剪口处长出愈伤组织;

S4:之后,采用定时微喷技术对步骤S4中的粗沙继续进行喷水20-40天,使愈伤组织发育成根系,得到砧木苗;

S5:将步骤S4得到的砧木苗,每天光照,通风,正常生长;

S6:第二年春天将步骤S5得到的砧木苗定植到大田中生长一年;

S7:第三年春天将接穗消毒并用湿布包扎,然后将其嫁接在步骤S6得到的砧木苗上,当嫁接成活后,该年秋天樱桃苗木出圃。

2.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S1中,所述考特原生砧木定植生长至0.5-1.5m的高度。

3.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S2中,所述生长点扦插的深度为10-30cm;所述生长点扦插的环境温度为20-30℃。

4.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S3中,每隔5-20min喷一次水,每次喷洒30s,每次喷洒水的含量为不少于100L/亩。

5.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S4中,每隔20-40min喷一次水,每次喷洒30s,每次喷洒水的含量为不少于100L/亩。

6.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S5中,每天光照5-12h,通风3-10h。

7.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,步骤S1-S4均处于大棚的避光环境中。

8.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S6中,生长一年得到的树苗,其直径为0.6-1cm,高度为0.8-1.5m。

9.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S6中,每亩大田栽植66-76株砧木苗,每隔三个月浇一次水,总共浇四次。

10.根据权利要求1所述的樱桃苗木的培育方法,其特征在于,在步骤S7中,所述接穗为一年生成熟饱满无病害的樱桃树枝条,并且所述接穗的两端削成“楔形”面,该“楔形”面的长边直径为1.5-3cm,所述接穗的长度为7-11cm。

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