[发明专利]一种硅基异质结太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201710063884.9 | 申请日: | 2017-02-04 |
公开(公告)号: | CN106784041A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 李艺明;邓国云;李浩 | 申请(专利权)人: | 江苏神科新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/05;H01L31/072;H01L31/18 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司35218 | 代理人: | 何家富 |
地址: | 224000 江苏省盐城市青*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅基异质结 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种硅基异质结太阳能电池,包括晶硅基片,所述晶硅基片的受光面和背面分别设置有第一本征非晶层和第二本征非晶层,所述第一本征非晶层上设置有第一掺杂层,所述第二本征非晶层上设置有第二掺杂层,所述第一掺杂层上设置有第一透明导电层,所述第二掺杂层上设置有第二透明导电层,其特征在于:
所述第一透明导电层和/或所述第二透明导电层由金属膜层和电介质膜层构成,所述电介质膜层覆盖在所述金属膜层的上下两表面,所述金属膜层的总厚度≤20nm;
所述第一掺杂层为p型掺杂层且第二掺杂层为n型掺杂层时,与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV;
所述第一掺杂层为n型掺杂层且第二掺杂层为p型掺杂层时,与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV。
2.一种硅基异质结太阳能电池,包括晶硅基片,所述晶硅基片的受光面设置有第一本征非晶层,所述第一本征非晶层上设置有一减反射层,所述晶硅基片的背面设置有第二本征非晶层,所述第二本征非晶层的表面区域内交错设置有第一掺杂层和第二掺杂层,所述第一掺杂层上设置有第一透明导电层,所述第二掺杂层上设置有第二透明导电层,其特征在于:
所述第一透明导电层和/或所述第二透明导电层由金属膜层和电介质膜层构成,所述电介质膜层覆盖在所述金属膜层的上下两表面;
所述第一掺杂层为p型掺杂层且第二掺杂层为n型掺杂层时,与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV;
所述第一掺杂层为n型掺杂层且第二掺杂层为p型掺杂层时,与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV。
3.根据权利要求2所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:所述第一本征非晶层与减反射层之间设置有一层掺杂层,所述掺杂层的导电类型与晶硅基片一致。
4.根据权利要求1或2所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:位于金属膜层下表面的电介质膜层为金属硫族化合物膜层。
5.根据权利要求4所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:所述金属硫族化合物膜层为硫化锌、硒化锌、硫硒化锌、硫化铟、硒化铟、硫硒化铟、硫化镉、硫化镉锌中的一种或两种以上。
6.根据权利要求1或2所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:所述金属膜层为银膜层、金膜层、铝膜层、铜膜层、铬膜层、钼膜层、钨膜层、铌膜层或其合金材料膜层。
7.根据权利要求1或2所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:位于金属膜层上表面的电介质膜层为氧化钛、氧化钛锡、氧化钛铌、氧化锌钛、硫化镉、硫化镉锌、硫化锌、硒化锌、硫硒化锌、氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化钼、氧化铌、氧化锌锡、氧化锌镁、氧化锌硅、ITO、ITIO、AZO、IWO、BZO、GZO、IZO、IGZO、IMO、氧化锡基透明导电材料或它们的任一组合中的一种。
8.根据权利要求1或2所述的硅基异质结太阳能电池,其特征在于:所述金属膜层为一层或双层结构;所述电介质膜层为一层或多层结构。
9.一种硅基异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括
准备晶硅基片;
在所述晶硅基片的受光面沉积第一本征非晶层;
在所述晶硅基片的背面沉积第二本征非晶层;
在所述第一本征非晶层上沉积第一掺杂层;
在所述第二本征非晶层上沉积第二掺杂层;
在所述第一掺杂层上沉积第一透明导电层;
在所述第二掺杂层上沉积第二透明导电层;
接着在所述第一透明导电层和第二透明导电层上分别形成栅电极,所述第一透明导电层和/或所述第二透明导电层由金属膜层和电介质膜层构成,所述电介质膜层覆盖在所述金属膜层的上下两表面,所述金属膜层的总厚度≤20nm;
所述第一掺杂层为p型掺杂层且第二掺杂层为n型掺杂层时,与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV;
所述第一掺杂层为n型掺杂层且第二掺杂层为p型掺杂层时,与第二掺杂层接触的电介质膜层的功函数≥4.5eV,和/或与第一掺杂层接触的电介质膜层的功函数≤5.0eV。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的