[发明专利]用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备在审

专利信息
申请号: 201710063890.4 申请日: 2017-02-04
公开(公告)号: CN106873314A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 韩建崴;廖平强;李源;曲鲁杰 申请(专利权)人: 深圳市优盛科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 代理人: 冯汉桥
地址: 518000 广东省深圳市南山区西丽街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 高精度 制作 数字化 双面 同时 曝光 设备
【权利要求书】:

1.用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:包括主控计算机、设置于曝光基板两侧且能够通过光速扫描曝光基板的光引擎、及能够使曝光基板与光引擎两者产生相对平面运动的移动平台,所述移动平台及光引擎均受主控计算机控制,该光引擎包括光学系统及内设微反射镜阵列的DMD芯片,且两相对应的所述光引擎所发出的光束的光轴重合,并与曝光基板相垂直。

2.根据权利要求1所述的用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:所述移动平台为龙门式移动平台,且其包括工作平台,工作平台上相对安装有可移动的龙门架,所述龙门架上安装有可移动的所述光引擎, 且该光引擎能够发射光束扫描安装于工作平台上的曝光基板。

3.根据权利要求1所述的用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:所述移动平台为桥架式移动平台,且其包括工作平台,工作平台上相对安装有固定的桥架,且桥架下方设置有可于工作平台上移动的滑架,所述桥架上安装有可移动的所述光引擎, 且该光引擎能够发射光束扫描安装于工作平台或是滑架上的曝光基板。

4.根据权利要求1所述的用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:所述光学系统是由光源系统及光学成像系统组成,光源系统由能够对光束进行匀化处理使光束光强分布均匀的匀光系统和将光源系统发出的光整形进入匀光系统并将匀光后的光束准直后按一定角度发射到DMD芯片上准直系统组成。

5.根据权利要求4所述的用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:所述的匀光系统采用的是光学积分器光棒或复眼或DOE光学器件。

6.根据权利要求4所述的用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:所述的光学成像系统是由多组光学镜片组成。

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