[发明专利]一种煤岩光片自动磨样装置及方法

说明书

一种煤岩光片自动磨样装置及方法，包括磨样机、喷淋水管、抛光液管、细磨砂盘、精磨砂盘、固定杆、限位块、样品槽、支架、加压杆、压力驱动系统及自动控制装置。设定压力值和磨样时间后，将煤岩光片放在样品槽内与细磨砂盘相接触，启动自动控制装置进行细磨和喷淋3秒后，启动压力驱动系统，将压力通过加压杆和固定杆作用于煤岩光片上，每隔15秒自动喷洒一次抛光液；达到设定磨样时间后，停止细磨砂盘，间隔5秒后，停止喷淋。然后将固定杆旋转放在精磨砂盘上，启动精磨砂盘进行精磨操作；精磨后，将煤岩光片在抛光布上抛光1～2min即可。本发明能缩短制样时间，降低耗材用量，保证样品表面平整、无磨痕、光面清晰，提高样品的显微可识别率。

技术领域

本发明属于煤焦化领域，尤其涉及一种可提高煤岩显微组分测定精度的煤岩光片的制备装置及制备方法。

背景技术

煤岩学的应用范围越来越广泛，在炼焦工业中，已将煤岩检测指标作为主要的检测指标。在当前炼焦煤供应市场复杂的情况下，煤岩检测可有效鉴别来煤煤质的混煤情况，起到控制来煤质量的作用；同时，煤岩配煤技术可有效降低配煤炼焦成本，在各企业中得到了普遍的应用。

煤岩配煤技术在科研、工业试验和工业生产应用过程中，不可缺少的环节就是将煤制成煤光片。煤光片制备的好与坏，对煤岩学的应用至关重要，是影响煤岩显微镜分析数据准确度的主要因素之一。

然而，煤焦光片的制备发展缓慢，主要以人工制样为主。由于煤岩显微分析是在高精度的煤岩显微镜下进行检测分析，获取数据。因此对煤岩光片样品的精度要求非常高，要求样品在油浸镜物下平整、无磨痕、光面清晰，因此受限于当前光片制备工艺，导致煤岩观测样品成样速度受限，造成大量生产待测样品积压，从而对煤岩样品处理人员提出了很高的技术要求，如人员变动更会使该项工作的稳定性大大降低。

“一种煤岩磨样机”(CN 104977204 A)提供了一种全智能煤岩磨样机，可实现全部研磨过程由全智能煤岩磨样机独立完成，具有可连续研磨3个试样、选择抛光研磨及单项研磨的功能。但是，该技术未有效解决煤岩光片因制备的煤种不同而需施加不同的压力、不同的磨样时间的问题。而不同变质程度的煤，其硬度是不相同的，即具有不同的可磨性。对于低变质程度的煤，由于其硬度较低、易磨，如果施加的磨样压力过大，会造成在水砂纸上进行研磨时，其磨痕较深，磨损量过大，以至于在后续细磨及抛光工序均无法消除较深的磨痕，从而影响显微镜下煤岩显微组分的识别及测定。而对于较高变质程度的煤，由于其硬度较大、不易研磨，如果施加相同的压力，磨样时间也相同，则导致样品未被磨平，会造成在煤岩显微组分的识别及测定时对焦困难，从而影响样片的识别及检测。另外，该技术中涉及的是成套装置，需要将现有的磨样装置整体替换，成本费用很高，造成了资源的浪费。

发明内容

本发明旨在提供一种磨样压力和时间可调，能缩短制样时间，降低耗材用量，保证样品表面平整、无磨痕、光面清晰，提高样品的显微可识别率的煤岩光片自动磨样装置及方法。

为此，本发明所采取的技术解决方案是：

一种煤岩光片自动磨样装置，包括磨样机、喷淋水管、抛光液管、细磨砂盘和精磨砂盘，增设固定杆、限位块、样品槽、支架、加压杆、压力驱动系统及自动控制装置；自动控制装置包括PLC、压力与时间显示器和电磁阀。

在磨样机非操作侧的中部固定一圆柱形支架，支架上端通过螺栓固定自动控制装置；固定杆上面带有滑槽，固定杆前端向下连接一开口朝下的样品槽，后端通过圆环活动连接在支架上，并可沿支架上下移动和水平旋转；在支架左前侧及右前侧的磨光机上分别对称装有限位块，以限定固定杆水平移动的位置；加压杆上端用圆环活动连接在支架上，下端滑动连接在固定杆滑槽内，加压杆通过中部铰接的传动杆与位于磨样机下方的压力驱动系统连接；PLC分别连接压力与时间显示器和压力、抛光液、喷淋、细磨、精磨5个电磁阀，5个电磁阀分别与压力驱动系统、抛光液管、喷淋水管、细磨砂盘及精磨沙盘相连。