[发明专利]磁盘的制造方法及信息记录介质用玻璃基板

说明书

本发明涉及磁盘的制造方法及信息记录介质用玻璃基板。本发明提供能够在高温下形成磁记录层的磁盘的制造方法。本发明涉及一种磁盘的制造方法，其包括在温度为550℃以上的玻璃基板上形成磁记录层的工序，其中，该玻璃基板以摩尔百分率计含有60～75％的SiO₂、7～17％的Al₂O₃、0以上且小于2％的B₂O₃、合计大于18％且为26％以下的MgO、CaO、SrO和BaO中的任意一种以上的成分，上述7种成分的含量合计为95％以上，并且含有合计小于1％的Li₂O、Na₂O和K₂O中的任意一种以上的成分、或者这3种成分均不含有。

本申请是申请日为2013年5月31日、国际申请号为PCT/JP2013/065285、中国申请号为201380029770.2的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及磁盘的制造方法及信息记录介质用玻璃基板，特别是在高温下形成磁记录层的磁盘的制造方法及适合于这种制造方法的玻璃基板。

背景技术

近年来，随着硬盘驱动器的记录容量的增大，高记录密度化正在高速发展。但是，伴随着高记录密度化，磁性粒子的微细化损害热稳定性，串扰或再生信号的SN比降低成为问题。

因此，作为光和磁的融合技术，热辅助磁记录技术受到瞩目。该技术是在使对磁记录层照射激光或近场光而局部被加热的部分的矫顽力降低的状态下施加外部磁场来进行记录并利用GMR元件等读取记录磁化的技术，由于能够在高保持力介质上进行记录，因此，能够在保持热稳定性的同时将磁性粒子微细化。

但是，为了将高保持力介质形成多层膜而进行成膜，需要将基板充分加热，要求高耐热基板。

另外，对于垂直磁记录方式而言，为了应对高记录密度化的要求，也提出了不同于以往的磁记录层，但这种磁记录层的形成大多需要使基板达到高温来进行。

作为能够应对前面叙述的热辅助磁记录技术的基板，提出了硅基板(参考专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-199633号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，一般而言，与玻璃基板相比，硅基板在强度方面令人担心。因此，在使基板达到高温来形成磁记录层的磁盘的制造中，也优选使用玻璃基板。

因此，本发明的目的在于提供这种磁盘的制造方法和制造适合于这种制造方法的信息记录介质用玻璃基板的方法。

用于解决问题的手段

本发明提供一种磁盘的制造方法，其包括在温度为550℃以上的玻璃基板上形成磁记录层的工序，其中，该玻璃基板以摩尔百分率计含有60～75％的SiO₂、7～17％的Al₂O₃、0以上且小于2％的B₂O₃、合计大于18％且为26％以下的MgO、CaO、SrO和BaO中的任意一种以上的成分，上述7种成分的含量合计为95％以上，并且含有合计小于1％的Li₂O、Na₂O和K₂O中的任意一种以上的成分、或者这3种成分均不含有。

另外，本发明提供上述磁盘的制造方法，其中，上述玻璃基板以摩尔百分率计含有合计为10.5～20％的MgO和CaO中的任意一种以上的成分。

另外，本发明提供上述磁盘的制造方法，其中，上述玻璃基板以摩尔百分率计含有6％以上的MgO。