[发明专利]一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法

权利要求书

1.一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是具体步骤为：

a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：

取环状外套（1）和可以设置在环状外套（1）中、与环状外套（1）同心的柱状内衬（2）作为模具；环状外套（1）和柱状内衬（2）之间形成有一定间隙；

按二氧化硅粒子5～20%、紫外光固化涂覆液80～95%的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子的高分子涂覆液，备用；

b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：

将含有无机粒子的高分子涂覆液涂覆于所述模具的环状外套（1）内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，烘干，烘干温度为80～130℃、烘干时间为1～5 min，再经紫外光固化，即在环状外套（1）内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层（3）；

c、制模：

将柱状内衬（2）置于环状外套（1）中并同心放置，在柱状内衬（2）和环状外套（1）之间的间隙中注入硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；

d、脱模：

待硅胶固化后，脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。

2.按权利要求1所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述二氧化硅粒子是由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成，其中粒径较小的二氧化硅粒子的粒径为20～50 nm，粒径较大的二氧化硅粒子的粒径为100～200 nm。

3.按权利要求1或2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述紫外光固化涂覆液是深圳撒比科技有限公司提供的HC-UVPCM-1、厦门茁耀科技有限公司提供的UV-8380、深圳市钟宏科技有限公司提供的宏泰品牌的UV固化液、深圳凡高化工材料有限公司提供的FC-300、无锡惠星新材料科技有限公司提供的晶钻品牌UV固化液、鹤山市励志门贸易有限公司提供的LE-6206X、苏州安富新材料技术有限公司提供的韩国HND生产的DHCS-M182或DHCS-C127、以及东莞市贝特利新材料有限公司提供的BTF系列的紫外光固化涂液中的任一种。

4.按权利要求1或2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤c中所述硅胶是道康宁SYLGARD 184、东芝TSE-3488T、东莞市国创有机硅材料有限公司提供的C825、以及东莞市广志复合材料有限公司提供的GZ1730矽利康硅胶中的任一种。

5.按权利要求1或2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述模具为透明模具，材质为玻璃、石英、亚克力、以及聚碳酸酯或亚克力-聚碳酸酯复合材质中的任一种。

6.按权利要求1或2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤b中所述涂覆是采用淋涂或喷涂方式。

7.按权利要求1或2所述能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是：步骤a中所述二氧化硅粒子由Stöber法制备。