[发明专利]透明层叠膜、具有该透明层叠膜的透明导电膜及触摸面板、以及透明层叠膜的制造方法

说明书

提供具有表面平滑性及透明性优异、与透明电极层的密合性优异的折射率匹配层的透明层叠膜、具备该透明层叠膜的透明导电膜及触摸面板、以及可通过1次的湿式涂布工序来形成该折射率匹配层的透明层叠膜的制造方法。在透明基材的一个面上具有依次层叠高折射率层及低折射率层而得的折射率匹配层的透明层叠膜，其中1μm见方的微小区域中的算术平均粗糙度(Ra)小于0.7nm，220至280nm的光的反射率为3.3至6.5％，220至280nm的光的平均反射率的变动系数为15％以下。

技术领域

本发明涉及在透明基材上具有折射率匹配层的透明层叠膜、透明层叠膜、具有该透明层叠膜的透明导电膜及触摸面板、以及透明层叠膜的制造方法。

背景技术

作为电子设备的显示装置，广泛使用了将透明导电膜贴合在液晶显示面板的偏光板的表面上而构成的触摸面板。透明导电膜为在以透明基材为主体而构成的透明层叠膜上矩阵状地设置由ITO等透明导电材料构成的透明电极而得的材料。为了调整具有透明电极的区域与没有透明电极的区域的折射率差，并且使透明电极的图案难以见到，有时在透明导电膜上设置被称为折射率匹配层(以下，称为“IM层”)的光学调整层。

特许第4666616号中记载了通过以下方式而得的透明导电膜，即，在透明基材上层叠的硬质涂层上，通过干式涂布来多次层叠高折射率层及低折射率层从而构成IM层，其后，层叠透明电极层。在特许第4666616号中，由于通过干式涂布来层叠IM层，因此，难以制作在大面积范围具有均一的IM层的透明电极膜。另外，由于需要多次进行用于形成IM层的涂布工序，因此，制造成本增加，与此同时，会有产率降低这样的问题。

特开2003-80624号公报记载了通过湿式涂布来形成高折射率层及低折射率层的透明导电材料。即使用这种方法，也需要分别进行高折射率层和低折射率层的涂布/成膜，因此，涂布工序变长，不能从根本上改善制造成本的增加或产率的降低。此外，由于低折射率层薄至20至120nm，因此，难以控制湿式涂布中的膜厚，其结果是，会有膜厚易于变得不均一这样的问题。

特许第5309597号中记载了这样的方法，即，使用以氟链进行了表面改性的低折射率粒子作为两种无机粒子的一种，通过两种无机粒子的表面自由能差而使低折射率粒子偏向分布在表面，从而通过一次的涂布工序来制作低折射率层及高折射率层。

然而，在特许第5309597号的方法中，由于在低折射率层中使用了微粒，因此IM层的表面平滑性变差。此外，由于氟基的存在，使得与其他粘结剂或溶剂的相容性降低，形成海岛结构，从而易于发生表面粗糙或涂膜的白化。此外，由于表面上存在有与其他分子的相容性差的氟基，因此，也会有透明电极层的密合性降低这样的问题。

因此，本发明的目的在于提供具有表面平滑性及透明性优异、与透明电极层的密合性优异的折射率匹配层的透明层叠膜、具备该透明层叠膜的透明导电膜及触摸面板、以及可通过1次的湿式涂布工序来形成该折射率匹配层的透明层叠膜的制造方法。

发明内容

本发明的特征在于一种透明层叠膜，其在透明基材的一个面上具有依次层叠高折射率层及低折射率层而得的折射率匹配层，其中，1μm见方的微小区域中的算术平均粗糙度(Ra)小于0.7nm，220至280nm的光的反射率为3.3至6.5％，220至280nm的光的平均反射率的变动系数为15％以下。

另外，本发明涉及在透明基材的一个面上具有依次层叠高折射率层及低折射率层而得的折射率匹配层的透明层叠膜的制造方法，其中，在透明基材的一个面上，涂布含有高折射率微粒、丙烯酸类单体、流平剂、光聚合引发剂和溶剂的涂液，通过使涂膜光固化从而形成折射率匹配层，丙烯酸类单体具有1个以上的氨基甲酸酯键、羟基、芳香环、氨基、羧基、磷酸酯中的任一者，流平剂为具有由下述通式(1)表示的重复结构的丙烯酸聚合物：

此处，R¹为氢或甲基，R²为碳原子数为1至9的聚醚或烷基。