[发明专利]一种基于氮化铪的高红外反射耐久多层膜材料

权利要求书

1.一种基于氮化铪的高红外反射耐久多层膜材料，其特征在于，包括从下到上的金属反射层R-HfN和介质透射层T-HfN，所述金属反射层R-HfN具有高反射率，所述介质透射层T-HfN是由低折射率透射层low n-T-HfN和高折射率透射层high n-T-HfN交替6次构成的12层结构的增反的膜系，所述金属反射层R-HfN和介质透射层T-HfN的材料均为氮化铪HfN_x；所述金属反射层R-HfN中HfN_x的x值为1.039，所述低折射率透射层low n-T-HfN中HfN_x的x值为1.383，所述高折射率透射层high n-T-HfN中HfN_x的x值为1.334。

2.如权利要求1所述的一种基于氮化铪的高红外反射耐久多层膜材料的制备方法，其特征在于，采用磁控溅射法，步骤如下：(1)选取硅片或玻璃基底作为衬底，依次在丙酮、乙醇和去离子水中超声清洗；(2)将纯Hf靶和衬底放入磁控溅射室，抽真空至4×10^-4Pa；(3)向磁控溅射室通入Ar气和N₂气；(4)控制N₂/(Ar+N₂)的流速比为3％-100％，首先在衬底上溅射沉积一层金属反射层R-HfN作为最底层，再在金属反射层上溅射沉积一层低折射率透射层low n-T-HfN，然后再溅射沉积一层高折射率透射层high n-T-HfN，反复交替沉积低折射率透射层low n-T-HfN和高折射率透射层high n-T-HfN 6次，实现总层数为13层。

3.如权利要求2所述的一种基于氮化铪的高红外反射耐久多层膜材料的制备方法，其特征在于，所述溅射的工艺参数为：Hf靶与衬底之间的距离为55mm，衬底的温度为200℃，工作压强为1.0Pa，工作偏压为-80V，溅射功率为150W。