[发明专利]对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模。

背景技术

在平板显示器的制造过程中，通常会应用曝光、显影等工艺。其中，曝光机能够自动识别位于基板上的对位标识，从而对基板的预定位置执行曝光。通常，对位标识被形成为矩形等规则形状(例如正方形)，从而使得曝光机能够容易识别对位标识。然而，在某些情况下，例如当对位标识被RGB光刻胶覆盖的情况下，由于RGB光刻胶可能具有较大的流动性，从而形成在边缘部分的光刻胶向对位标识的外侧流动，导致对位标识上方的光刻胶表面呈现出四周薄中心厚的凸形形貌。在这种情况下，当光照射在该表面时，曝光机的对位镜头接收到的图形会出现由内外两个正方形组成的回字形图形。因此，曝光机无法清楚地识别对位标识，从而难以进行正常的曝光操作。

发明内容

为了解决现有技术中存在的问题，本发明的各方面提供了一种对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模。利用根据本发明的对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模，能够防止在对位标识处出现回字形图像，从而使得曝光机能够准确识别对位标识的位置。

根据本发明的一方面，提供了一种对位标识，包括：第一区域，位于所述对位标识的中心区域；以及第二区域，围绕所述第一区域，其中，在所述对位标识的厚度方向上，所述第二区域从所述第一区域凸出。

优选地，在平面图中，所述第一区域的边缘与所述第二区域的边缘形成回字形形状。

优选地，所述第一区域的边缘与所述第二区域的边缘之间的距离小于或 等于所述对位标识的总宽度的10％

根据本发明的另一方面，提供了一种基板，包括根据本发明的前述实施例的对位标识，其中所述第二区域朝向远离所述基板的表面的方向凸出。

根据本发明的另一方面，提供了一种在基板上形成对位标识的方法，包括：在基板上形成第一材料层；以及将所述第一材料层图案化，以形成对位标识，其中，所述对位标识包括位于所述对位标识的中心区域的第一区域以及围绕所述第一区域的第二区域，其中在所述对位标识的厚度方向上，所述第二区域从所述第一区域凸出，并且所述第二区域朝向远离所述基板的表面的方向凸出。

优选地，将所述第一材料层层图案化包括：形成具有预定图案的对位标识区域；以及蚀刻所述对位标识区域的中心区域以形成所述第一区域和所述第二区域。

优选地，将所述第一材料层图案化包括：利用半色调掩模对所述对位标识区域曝光；以及对曝光后的对位标识区域进行显影和蚀刻，其中，所述半色调掩模具有对应于所述第一区域的第一掩模区域和对应于所述第二区域的第二掩模区域，其中，所述第一掩模区域的透光率低于所述第二掩模区域的透光率。

优选地，将所述第一材料层图案化包括：形成具有预定图案的对位标识区域；以及在对位标识区域的外周部分沉积或涂覆第二材料层以形成所述第一区域和所述第二区域。

优选地，将所述第一材料层层图案化包括：利用掩模覆盖对位标识区域的对应于所述第一区域的部分；以及在未被覆盖的对应于所述第二区域的部分沉积或涂覆第二材料层。

优选地，在平面图中，所述第一区域的边缘和所述第二区域的边缘形成为回字形形状。

优选地，所述第一区域的边缘和所述第二区域的边缘之间的距离小于或等于所述对位标识的总宽度的10％。

根据本发明的另一方面，提供了一种半色调掩模，包括：第一开口；以及第二开口，围绕所述第一开口，其中，所述第一开口的透光率低于所述第二开口的透光率。

优选地，所述第一开口对应于根据本发明的前述实施例的对位标识的第一区域，所述第二开口对应于所述对位标识的第二区域。

优选地，所述第一开口的边缘与所述第二开口的边缘形成回字形形状。

优选地，所述第一开口的边缘与所述第二开口的边缘之间的距离小于或等于所述对位标识的总宽度的10％。

根据本发明，提供了一种对位标识，包括：第一区域，位于所述对位标识的中心区域；以及第二区域，围绕所述第一区域，其中，在所述对位标识的厚度方向上，所述第二区域从所述第一区域凸出。利用上述对位标识，能够防止在对位标识处出现回字形图像，从而使得曝光机能够准确识别对位标识的位置。另外，根据本发明，还提供了该对位标识的形成方法、具有该对位标识的玻璃基板以及用于形成该对位标识的半色调掩模。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：