[发明专利]X射线靶及具备该X射线靶的X射线产生装置在审
| 申请号： | 201710074315.4 | 申请日： | 2017-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN107195516A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 前田裕树 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | H01J35/16 | 分类号： | H01J35/16;H01J35/18;H01J35/24 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 | 代理人： | 寿宁,张华辉 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射线 具备 产生 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种X射线靶，其特征在于包括：
照射窗，使靶材成膜于表面；
第1框架，与所述照射窗接合，支撑所述照射窗；以及
第2框架，未与所述照射窗接合，而与所述第1框架接合，支撑所述第1框架，由金属形成；并且
以所述照射窗与所述第1框架的热膨胀率的差小于所述照射窗与所述第2框架的热膨胀率的差的方式而构成。
2.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：
所述第1框架设置于所述照射窗的外周，所述第2框架设置于所述第1框架的外周。
3.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：
所述第2框架的导热率大于所述第1框架。
4.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：
所述第1框架由热膨胀率5×10-6/K以下的金属构成，所述第2框架由导热率200W/m/K以上的金属构成。
5.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：
所述第1框架由钨或钼形成，所述第2框架由铜形成。
6.根据权利要求1所述的X射线靶，其特征在于：
所述照射窗为金刚石。
7.一种X射线产生装置，其特征在于包括：
根据权利要求1至6中任一权利要求所述的X射线靶；以及
容器，收容所述X射线靶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社岛津制作所，未经株式会社岛津制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710074315.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：槽马达组件和电弧板组件的组合
- 下一篇：一种反应腔室的清洗方法
