[发明专利]一种低污染的他克莫司粗品的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及生物医药技术领域，具体地，涉及一种低污染的他克莫司粗品的制备方法。

背景技术

他克莫司(FK506)是一种由链霉菌产生的新型23元大环内酯聚酮类物质，具有很强的免疫抑制作用，其效力比应用较广的环孢霉素A(Cyclosporin A，CsA)高近100倍，而毒副作用比环孢素更少，还具有低死亡率高移植存活率、移植成功率高、依赖性小等优点。

他克莫司广泛应用于特应性皮炎、变应性接触性皮炎、银屑病、红斑狼疮、扁平苔癣、白癜风、Nethenton综合症和抑制宿主病等自身免疫疾病的治疗，目前临床应用于预防肝脏或肾脏移植术后的移植物排斥反应，治疗肝脏、胰腺、肾脏、心脏、肺等实体器官移植术后应用其他免疫抑制药物无法控制的移植物排斥反应。

他克莫司来源于发酵产品，发酵过程同时也产生了多个他克莫司类似物，包括二氢他克莫司和子囊霉素等杂质，为有效的分离提纯他克莫司，国内外已经有学者进行了一些列的研究：杨文革等介绍了一种他克莫司的纯化工艺，采用菌丝体抽提、发酵液萃取、大孔树脂层析、减压蒸馏、硅胶柱层析及冷却结晶技术得到他克莫司纯品；温耀明等人将他克莫司粗品使用有机溶剂溶解，通过制备型高速逆流色谱仪进行连续纯化并收集含他克莫司的主峰，然后将收集液接着依次进行减压浓缩、有机溶剂萃取、浓缩萃取液并重结晶以获得产品。

可见受制于他克莫司发酵产物中成分复杂，杂质较多等不利因素影响，目前的纯化工艺基本都是发酵液经过萃取、多次层析、蒸馏、结晶等，制备得到他克莫司成品。整个制备流程使用了大量的有机溶剂且工艺复杂、大多经历了萃取、浓缩等工序，能耗很高。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种低污染的他克莫司粗品的制备方法，本发明具有处理量大、能耗低、有机溶剂用量少、适宜于连续生产的优点。

为了实现上述目的，本发明是通过以下技术方案予以实现的：

一种低污染的他克莫司粗品的制备方法，包括如下步骤：

(1)将他克莫司粗品溶液进行一级超滤，所述一级超滤的截留分子量为10000 Da～60000 Da；

(2)经步骤(1)处理后的溶液进行二级超滤，所述二级超滤的截留分子量为3000Da～10000Da；

(3)经步骤(1)处理后的溶液进行纳滤得浓缩液，纳滤的截留分子量为100Da～1000Da，使用30%～40%的有机溶剂水溶液多次冲洗浓缩液，大批量制备得到他克莫司粗品；其中，30%～40%的有机溶剂水溶液总使用量为浓缩液的0.2～0.5倍体积。

步骤(1)所述的他克莫司粗品溶液可以是他克莫司发酵液经初步离心后的上清液，也可以是他克莫司发酵液经初步离心后，再经过柱层析后的收集液粗品。

优选地，所述一级超滤和二级超滤所使用的超滤膜材质为陶瓷材质、聚砜材质或者聚醚砜材质。

优选地，所述一级超滤的截留分子量为10000 Da～20000 Da。

优选地，所述二级超滤的截留分子量为3000 Da～5000 Da。

可以使用下列超滤膜中的任意一种：密理博公司（Millipore CO.）的Pellicon module Biomax、Ultracel超滤膜、Prostak module的PT、PL超滤膜、Spiral Wound Ultrafiltration module的PT、PL、Helicon超滤膜、德国赛多利斯公司（Sartorius AG）的Satrocon Ultrasart超滤膜、玻尔公司（Pall Co.）的OMEGATM、ALPHATM、REGENTM、SUPORTM超滤膜、陶氏化学（DOW Chemical Co.）的FilmtecTM超滤膜、法玛西亚公司（Amersham Pharmacia）的KvickTM超滤膜。

优选地，所述一级超滤和二级超滤是在压力为0.01MPa～0.2MPa，温度为0～60℃的条件下进行。

更优选地，所述一级超滤和二级超滤是在压力为0.04MPa～0.08MPa，温度为0～30℃的条件下进行。

优选地，所述纳滤膜的截留分子量为200Da～500Da。

优选地，所述纳滤采用的膜材质为聚砜或者聚醚砜。可以使用GE的OSMONICS纳滤膜、科氏（KOCH）公司的纳滤膜、陶氏化学（DOW Chemical Co.）的纳滤膜等。

优选地，所述纳滤是在操作温度0～30 ℃，0～2.0MPa的进口压，0～1.8MPa的回流压力下进行。