[发明专利]电光学装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201710078041.6 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN107086237B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 腰原健;太田人嗣;野泽陵一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;李庆泽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 装置 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种电光学装置,其特征在于,具备:

多个第一导电层,沿第一方向延伸;

多个第二导电层,沿第二方向延伸;以及

多个子像素,同所述多个第一导电层与所述多个第二导电层的各个交叉对应地排列,

对于所述多个子像素而言,将在所述第一方向上邻接的显示色不同的多个子像素作为一像素单位,

所述多个子像素的各个子像素具备:

第三导电层,其是与发光元件对应地设置的反射层;

多个晶体管;

电容,

所述多个晶体管被配置于所述第一方向的宽度比所述第二方向的宽度窄的像素电路区域的内部,

对于所述一像素单位所包括的所述多个子像素中的至少一个子像素的所述第三导电层而言,所述第一方向的宽度比所述第二方向的宽度宽,并且与所述一像素单位所包括的所述多个晶体管中的至少一个晶体管重叠,

所述多个第一导电层中的一个导电层与所述一像素单位所包括的所述多个子像素的各个子像素所包括的所述多个晶体管的至少一个晶体管电连接,

在将所述一像素单位所包括的所述多个晶体管中的、由第一假想线、第二假想线、第三假想线以及第四假想线包围的区域规定为晶体管的配置区域,并将所述一像素单位所包括的多个所述第三导电层中的、由第五假想线、第六假想线、第七假想线以及第八假想线包围的区域规定为第三导电层的配置区域时,所述第三导电层的配置区域的中心位置与所述晶体管的配置区域的中心位置不同,

所述第一假想线通过位于所述第一方向的最靠一方向侧的晶体管的有源区域的所述第一方向的最靠一方向侧的边,

所述第二假想线通过位于所述第一方向的最靠另一方向侧的所述电容的有源区域的所述第一方向的最靠另一方向侧的边,

所述第三假想线通过位于所述第二方向的最靠一方向侧的晶体管的有源区域的所述第二方向的最靠一方向侧的边,

所述第四假想线通过位于所述第二方向的最靠另一方向侧的晶体管的有源区域的所述第二方向的最靠另一方向侧的边,

所述第五假想线通过位于所述第一方向的最靠一方向侧的第三导电层的所述第一方向的最靠一方向侧的边,

所述第六假想线通过位于所述第一方向的最靠另一方向侧的第三导电层的所述第一方向的最靠另一方向侧的边,

所述第七假想线通过位于所述第二方向的最靠一方向侧的第三导电层的所述第二方向的最靠一方向侧的边,

所述第八假想线通过位于所述第二方向的最靠另一方向侧的第三导电层的所述第二方向的最靠另一方向侧的边。

2.根据权利要求1所述的电光学装置,其特征在于,

所述多个第一导电层是扫描线。

3.根据权利要求1或2所述的电光学装置,其特征在于,

在所述一像素单位所包括的所述多个子像素中的至少一个子像素的所述第三导电层与同所述至少一个子像素的所述第三导电层重叠的至少一个晶体管之间,以在俯视时与所述至少一个晶体管重叠的方式设置沿所述第一方向延伸的第四导电层。

4.根据权利要求3所述的电光学装置,其特征在于,

所述第四导电层是与所述晶体管连接的电源配线。

5.根据权利要求3所述的电光学装置,其特征在于,

在俯视时,所述第七假想线或者所述第八假想线与所述第四导电层重叠。

6.根据权利要求3所述的电光学装置,其特征在于,

在俯视时,所述至少一个子像素的所述第三导电层整体与所述第四导电层重叠。

7.根据权利要求1或2所述的电光学装置,其特征在于,

所述电光学装置还具备第五导电层,该第五导电层与所述一像素单位所包括的所述多个子像素所包括的所述多个晶体管中的至少一个晶体管的栅极层连接,并且沿所述第一方向延伸,

对于所述一像素单位所包括的多个所述第三导电层中的在所述第二方向上相邻的两个所述第三导电层而言,在俯视时,在所述第二方向上对置的边与所述第五导电层或者所述多个第一导电层中的一个导电层重叠。

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