[发明专利]一种高比表面钽电容器阳极钽箔及其制备方法有效
| 申请号： | 201710078353.7 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN106847511B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 王振洋;张淑东;李年;张忠平;赵婷婷;江海河 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | H01G9/048 | 分类号： | H01G9/048;H01G9/00 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 卢敏;何梅生 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 比表面 钽电容 阳极 及其 制备 方法 | ||
1.一种高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：
所述高比表面钽电容器阳极钽箔，包括钽片层和钽微纳米颗粒层，所述钽片层为片状结构，所述钽微纳米颗粒层一体化形成在所述钽片层的至少一个表面上；
所述高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法为：取钽片，用酒精清洗去除钽片表面的油污和灰尘；然后将钽片放在光学平台上，并用夹具定位、夹紧；最后调整激光器参数和光斑直径，控制激光束对钽片表面进行点扫描处理或线扫描处理，即在钽片层表面一体化形成钽微纳米颗粒层；
对钽片表面进行点扫描处理时，调整所述激光器的能量范围为15～25w、扫描速度范围为500～1000mm/s、光斑直径为10～30μm；
对钽片表面进行线扫描处理时，调整所述激光器的能量范围为25～30w、扫描速度范围为600～1000mm/s、线宽为10～30μm、线间距10～30μm，横扫或竖扫。
2.如权利要求1所述的高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：对钽片表面进行点扫描处理或线扫描处理的处理区域为任意形状。
3.如权利要求1所述的高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：所述钽微纳米颗粒层至少为一层。
4.如权利要求1所述的高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：所述钽微纳米颗粒层的面积小于或等于所述钽片层的表面积。
5.如权利要求1所述的高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：所述钽片层的厚度为5μm～2mm。
6.如权利要求1所述的高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：所述钽微纳米颗粒层的厚度为1μm～40μm，构成所述钽微纳米颗粒层的钽微纳米颗粒尺寸为1nm～20μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院合肥物质科学研究院，未经中国科学院合肥物质科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710078353.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
