[发明专利]光学尼龙无取向膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，至少包括以下步骤，

提供尼龙材料；

将尼龙材料进行预热到拉伸温度，得到热尼龙；和

将所述热尼龙经过纵向拉伸工艺；

其中，所述纵向拉伸工艺的拉伸倍率为1～3；

所述的尼龙材料中还包括磺化聚酰胺；

所述磺化聚酰胺的制备方法为：

(1)在惰性气体保护下，将氯化钙加入反应器中，然后加入溶剂N-甲基吡咯烷酮搅拌均匀，100℃下充分溶解；

(2)上述反应液降至12℃后，将己二酸、4,4'-二氨基二苯乙烯-2,2'-二磺酸、1,8-辛二胺、2,6-二氨基吡啶、亚磷酸三苯酯、三乙胺按照摩尔比为1：1：1.5：0.5：3：5加到上述溶液中于100℃下，聚合10小时，然后将反应液倾倒至甲醇溶液中，将得到的沉淀物洗涤过滤，干燥，得到磺化聚酰胺。

2.如权利要求1所述的光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，所述的拉伸温度为95～130℃。

3.如权利要求1所述的光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，所述纵向拉伸工艺的拉伸倍率为2.2。

4.如权利要求1所述的光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，所述的尼龙材料选自：尼龙12、尼龙11、尼龙6、尼龙66、尼龙6/66共聚物、尼龙6/66/610共聚物、尼龙610、尼龙612、尼龙1010、尼龙46、尼龙7、尼龙9、尼龙13、尼龙6I、尼龙9T、尼龙MXD6、尼龙6T、尼龙6/6T共聚物中的任意一种或几种的混合。

5.如权利要求4所述的光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，所述的尼龙材料的重均分子量为10000～1000000。

6.一种光学尼龙无取向膜，其特征在于，采用如权利要求1～5任意一项所述的光学尼龙无取向膜的制备工艺得到的。

7.如权利要求6所述的光学尼龙无取向膜，其特征在于，所述的光学尼龙无取向膜的厚度为：0.05～0.25mm。

8.一种尼龙偏光眼镜片，其特征在于，由下至上依次包括

尼龙无取向膜层；

偏光膜层；

尼龙无取向膜层；

所述尼龙无取向膜层采用权利要求6所述的光学尼龙无取向膜制备得到。

9.一种尼龙偏光眼镜片，其特征在于，由下至上依次包括

尼龙基材层；

尼龙无取向膜层；

偏光膜层；

尼龙无取向膜层；

所述尼龙无取向膜层采用权利要求6所述的光学尼龙无取向膜制备得到。

10.如权利要求6所述的光学尼龙无取向膜在眼镜、显示设备或通信设备中的应用。