[发明专利]使用离子阱跨越质量范围进行连续窗口化获取的系统及方法

权利要求书

1.一种用于质谱数据的连续窗口化获取的系统，其包括：

质谱仪，其包含离子源、线性离子阱及质量分析器；及

处理器，其与所述质谱仪通信，所述处理器：

接收样本的连续质量范围及质量窗宽度参数，

指示所述质谱仪在所述线性离子阱中收集来自离子流的在所述连续质量范围内的多个离子，其中所述离子流由所述离子源从所述样本中产生，

指示所述质谱仪向所述线性离子阱施加射频RF径向激励以选择所述线性离子阱中的在所述连续质量范围内的离子，

指示所述质谱仪关闭从所述样本到所述线性离子阱的所述离子流，

指示所述质谱仪将所选择的在所述连续质量范围内的离子从碰撞室转移回至所述线性离子阱，

使用所述质量窗宽度参数计算跨越所述连续质量范围的两个或更多个邻近或重叠质量窗，

指示所述质谱仪向所述线性离子阱施加RF径向激励以选择所述线性离子阱中的在所述两个或更多个邻近或重叠质量窗的每一质量窗内的离子，

指示所述质谱仪使用所述碰撞室将投射到所述碰撞室内的在所述两个或更多个邻近或重叠质量窗的每一质量窗内的离子碎片化，

指示所述质谱仪从所述离子阱喷射所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗内的离子且使用所述质量分析器从所述每一质量窗的所喷射的离子中检测质谱，产生所述连续质量范围的质谱集合，其中所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一窗内的所述离子经喷射以扫描所述连续质量范围。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述两个或更多个邻近或重叠质量窗具有相同的宽度。

3.根据权利要求2所述的系统，其中处理器指示所述质谱仪通过针对所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗使用具有不同激励频率范围的不同RF波形而向所述线性离子阱施加射频RF径向激励以从所述线性离子阱中选择所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗内的离子。

4.根据权利要求3所述的系统，其中具有不同激励频率范围的不同RF波形在所述质谱仪从所述线性离子阱喷射任何离子之前由所述处理器针对所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗而计算且存储在所述质谱仪上。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述两个或更多个邻近或重叠质量窗具有不同的宽度。

6.根据权利要求5所述的系统，其中处理器指示所述质谱仪通过针对所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗使用具有相同激励频率范围的相同RF波形而向所述线性离子阱施加射频RF径向激励以从所述线性离子阱中选择所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗内的离子。

7.根据权利要求5所述的系统，其中所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗的宽度随着所述连续质量范围中的所述每一质量窗的质量增大而增大。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述处理器指示所述质谱仪使用径向振幅协助转移RAAT选择在所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗内的离子并将其从所述线性离子阱喷射至所述碰撞室，其中在RAAT中，使用径向激励场选择每一质量窗内的离子且随后使用轴向加速场喷射所选择的离子。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述处理器指示所述质谱仪使用质量选择性轴向喷射MSAE选择在所述两个或更多个邻近或重叠质量窗中的每一质量窗内的离子并将其从所述线性离子阱喷射至所述碰撞室，其中在MSAE中，使用径向激励场选择每一质量窗内的离子，但不使用轴向场喷射所述离子，而是降低所述线性离子阱和所述碰撞室之间的出口势垒以将每一质量窗内的所述离子从所述线性离子阱轴向地喷射到所述碰撞室。