[发明专利]光致发光材料、光转换膜片的制备方法、光转换膜片及显示设备在审

专利信息
申请号: 201710081847.0 申请日: 2017-02-15
公开(公告)号: CN106833649A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 顾辛艳 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: C09K11/88 分类号: C09K11/88;C09K11/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 赵囡囡,吴贵明
地址: 310052 浙江省杭州市滨*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光致发光 材料 转换 膜片 制备 方法 显示 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学技术领域,具体而言,涉及一种光致发光材料、光转换膜片的制备方法、光转换膜片及显示设备。

背景技术

随着科学技术的发展,轻薄、响应速度快、色彩鲜艳的OLED(有机发光二极管)显示设备逐渐受到人们的关注,传统的LCD(液晶显示器)受到威胁,因此纷纷引入量子点(quantum dots)至传统的LCD的背光模组中以推出量子点电视,从而将显示设备的色域提升至OLED的水准。上述引入量子点的工艺通常是将红色和绿色量子点共混灌装在玻璃管中,或是做成薄膜添加至背光模组中,在蓝色背光的激发下,量子点发出色纯度高的红光和绿光,从而实现全彩显示。

无论是LCD还是OLED显示,出光侧都需要添加彩色滤光片(color filter),用来精准的呈现色彩。由于量子点的半峰宽极窄,所以经过彩色滤光片后,量子点电视的色域几乎不受影响,而半峰宽较宽的OLED显示的色域却大为降低。

然而,量子点电视或OLED在引入了彩色滤光片后,都损失了较多的光能,现有技术中还采取光刻胶与单色量子点共混来制备含量子点的彩色滤光片,也即光转换膜片,光刻胶一般利用365nm波长的紫外光实现固化反应,而量子点在这个波长的紫外灯照射下有较大的吸收,导致固化速率变慢,这就需要提高紫外灯的能量或者增加引发剂的量来确保光刻胶顺利反应,而光引发剂的残留等都会极大的降低量子点的发光效率。

并且,目前量子点膜片的制备工艺主要为光刻,即通过紫外曝光显影得到像素隔离结构BM(black matrix),之后再依次旋涂混合有量子点的光刻胶、曝光、显影,如此反复三次得到RGB量子点膜片。显然,上述方法中将部分混合有量子点的光刻胶刻蚀掉,材料利用率较低,导致浪费了大量材料,且精密的光刻设备造价昂贵,这些都大大增加了显示面板的成本;另一方面,光刻制程中的材料(光刻胶中的光引发剂等)对量子点膜片的光致效果也存在影响。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种光致发光材料、光转换膜片的制备方法、光转换膜片及显示设备,以解决现有技术中光转换膜片的光致效果较差的问题。

为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种光致发光材料,包括惰性高分子树脂和设置于惰性高分子树脂中的量子点材料,惰性高分子树脂为第一类惰性树脂或第二类惰性树脂,第一类惰性树脂的玻璃化转变温度≥100℃,第二类惰性树脂的玻璃化转变温度≤-20℃,且25℃时第二类惰性树脂的粘度≥106cps。

进一步地,第一类惰性树脂的数均分子量为5×104或以上,优选第一类惰性树脂选自聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物、聚碳酸酯、聚碳酸烯丙基二甘醇酯、苯乙烯丙烯腈共聚物和苯乙烯-丁二烯-丙烯酯共聚物中的任一种或多种。

进一步地,第二类惰性树脂的数均分子量为5×104或以上,优选第二类惰性树脂为聚异丁烯。

进一步地,量子点材料的表面具有配体,配体一端携带双键,双键用于和形成惰性高分子树脂的单体发生聚合反应形成共聚物,优选配体的另一端与量子点材料连接,另一端为羧基、巯基或氨基,优选单体为单官能单体,更优选为乙烯基单体。

进一步地,量子点材料与惰性高分子树脂的质量比为1:19~19:1。

进一步地,光致发光材料还包括溶剂、助剂和散射粒子中的至少一种。

进一步地,光致发光材料包括溶剂、助剂和散射粒子,惰性高分子树脂和量子点材料的重量占光致发光材料的总重量的0.5~95%,溶剂的重量占光致发光材料的总重量的2~80%,助剂的重量占光致发光材料的总重量的0.5~15%,散射粒子的重量占光致发光材料的总重量的0.5~20%。

根据本发明的另一方面,提供了一种光转换膜片的制备方法,制备方法包括形成量子点层的步骤,形成量子点层的步骤包括以下过程:将上述的光致发光材料设置于载体上;对光致发光材料进行干燥处理,形成量子点层。

进一步地,干燥处理为热板烘烤、红外烘烤或真空干燥。

进一步地,在将光致发光材料设置于载体上的步骤之前,形成量子点层的步骤还包括以下过程:在载体的表面设置黑色矩阵,以形成像素隔离结构。

进一步地,该制备方法还包括以下步骤:在量子点层的远离载体的上方或者载体的远离量子点层的下方设置密封层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳晶科技股份有限公司,未经纳晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710081847.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top