[发明专利]膜厚度监测系统、其腔室及用于监测膜厚度沉积工艺的方法有效
| 申请号： | 201710082246.1 | 申请日： | 2017-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN107686981B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 许祐霖;黄国兴;林建宏;石邦岷;宋兆峰 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 方丁一 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 厚度 监测 系统 用于 沉积 工艺 方法 | ||
1.一种膜厚度监测系统，其特征在于，包括：
材料源，用以提供沉积材料；
阀门，连接至所述材料源；以及
腔室，包括：
歧管，连接至所述阀门并具有至少一个第一喷嘴与至少一个第二喷嘴；
石英晶体微量天平，与所述至少一个第二喷嘴相对地安置，其中所述沉积材料适于经由所述至少一个第二喷嘴而沉积于所述石英晶体微量天平上，且所述石英晶体微量天平包括面对所述至少一个第二喷嘴的活动遮板；以及
压力传感器，安置于所述歧管中，
其中，所述活动遮板设置在所述歧管之外，所述石英晶体微量天平配置为校准所述压力传感器。
2.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述腔室还包括与所述至少一个第一喷嘴相对地安置的靶，其中所述沉积材料适于经由所述至少一个第一喷嘴而沉积于所述靶上。
3.根据权利要求2所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述歧管中的压力与所述腔室中的所述靶处的压力相同。
4.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述压力传感器包括灯丝。
5.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述阀门是针阀。
6.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，还包括活动遮板控制器，用以控制所述石英晶体微量天平上的所述活动遮板开启或关闭。
7.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，还包括支撑体，支撑所述石英晶体微量天平并用以调节所述石英晶体微量天平相对于所述至少一个第二喷嘴的位置。
8.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述材料源是坩埚，所述坩埚适于被加热以将所述沉积材料气化。
9.根据权利要求1所述的膜厚度监测系统，其特征在于，所述至少一个第一喷嘴与所述至少一个第二喷嘴安置于所述歧管的不同侧上。
10.一种适用于膜厚度监测系统的腔室，其特征在于，包括：
歧管，具有至少一个第一喷嘴与至少一个第二喷嘴；
石英晶体微量天平，与所述至少一个第二喷嘴相对地安置，其中沉积材料适于经由所述至少一个第二喷嘴而沉积于所述石英晶体微量天平上，且所述石英晶体微量天平包括面对所述至少一个第二喷嘴的活动遮板；以及
压力传感器，安置于所述歧管中，
其中，所述活动遮板设置在所述歧管之外，所述石英晶体微量天平配置为校准所述压力传感器。
11.根据权利要求10所述的腔室，其特征在于，还包括与所述至少一个第一喷嘴相对地安置的靶，其中提供至所述歧管的所述沉积材料适于经由所述至少一个第一喷嘴而沉积于所述靶上。
12.根据权利要求11所述的腔室，其特征在于，所述歧管中的压力与所述腔室中的所述靶处的压力相同。
13.根据权利要求10所述的腔室，其特征在于，所述压力传感器包括灯丝。
14.根据权利要求10所述的腔室，其特征在于，所述至少一个第一喷嘴与所述至少一个第二喷嘴安置于所述歧管的不同侧上。
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