[发明专利]一种制备电润湿显示支撑板的方法有效
| 申请号： | 201710084243.1 | 申请日： | 2017-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN106707500B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 吴昊;董宝琴;窦盈莹;李发宏;周国富 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 510631 广东省广州市大学城*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 润湿 显示 支撑 方法 | ||
1.一种制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，包括以下步骤：
制备具有电极层的基板；
在具有电极层的基板上制备疏水性绝缘层和像素墙，所述像素墙由亲水材料制成；
对具有像素墙的基板整体进行等离子体刻蚀，等离子体刻蚀的功率为30-1000W/m2；
将等离子体刻蚀后的基板加热，使疏水性绝缘层恢复疏水性；
所述等离子体刻蚀后的基板加热的温度为140-250℃。
2.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，等离子体刻蚀的时间为10-300s。
3.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，刻蚀后所述疏水性绝缘层的厚度为200-2000nm。
4.根据权利要求1所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，刻蚀后所述像素墙的厚度为2-20μm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，所述疏水性绝缘层为单层结构或复合层结构，当所述疏水性绝缘层为复合层结构时，所述疏水性绝缘层包括电介质层和设于所述电介质层上的疏水层。
6.根据权利要求5所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，所述疏水性绝缘层为单层结构，所述疏水性绝缘层的材料为无定形含氟聚合物。
7.根据权利要求5所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，所述疏水性绝缘层为复合层结构，所述电介质层的材料为含氟聚合物或无机材料，所述疏水层的材料为无定形含氟聚合物。
8.根据权利要求1-4任一项所述的制备电润湿显示支撑板的方法，其特征在于，在具有电极层的基板上制备疏水性绝缘层和像素墙的具体步骤包括：
在电极层上制备疏水性绝缘层；
对疏水性绝缘层进行亲水性改性；
在改性后的疏水性绝缘层上制备像素墙。
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