[发明专利]测量方法和测量程序

权利要求书

1.一种测量方法，是从测量头对目标物体的表面照射光并基于反射光测量形状的方法，其特征在于，包括以下步骤：

设定为适合于测量所述目标物体的第1区域的测量条件，对所述表面以第1扫描范围和第1扫描间距进行测量，得到第1测量结果的步骤；

从所述第1测量结果求所述表面之中的第2区域的步骤；以及

设定为适合于测量所述第2区域的测量条件，对所述表面以所述比第1扫描范围窄的第2扫描范围和比所述第1扫描间距细的第2扫描间距进行测量，得到第2测量结果的步骤。

2.如权利要求1所述的测量方法，

求所述第2区域的步骤，包括从所述第1测量结果仅基于所述第2区域的测量数据假定表面基准位置，

得到所述第2测量结果的步骤，包括设定包含所假定的所述表面基准位置的所述第2扫描范围。

3.如权利要求1或2所述的测量方法，

所述第1区域有相对于所述表面凹陷的凹部。

4.如权利要求3所述的测量方法，

求所述第2区域的步骤，包括从所述第1测量结果仅基于所述第2区域的测量数据假定表面基准位置，

得到所述第2测量结果的步骤，包括设定所述第2扫描范围，所述第2扫描范围包含假定的所述表面基准位置、不包含比所述表面基准位置的最低位置凹陷的所述凹部的至少底部。

5.如权利要求1至4的任意一项所述的测量方法，还包括：

将从所述第1测量结果得到的所述第1区域的数据和从所述第2测量结果得到的所述第2区域的数据合成的步骤。

6.如权利要求1至5的任意一项所述的测量方法，

所述测量头通过光干涉法得到所述第1测量结果和所述第2测量结果。

7.如权利要求1至6的任意一项所述的测量方法，

所述第2区域是所述表面之中所述第1区域以外的区域。