[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：

基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；

形成在所述第一表面上的微采样工具；

形成在所述第二表面上的微图文笔画，该微图文笔画由亚波长结构形成；

在所述微图文笔画上同形覆盖的第一镀层；以及

在所述第二表面的所述微图文笔画之间的区域上同形覆盖的第二镀层，

其中，所述微图文笔画与所述微图文笔画之间的区域具有高度差，其中所述高度差满足h≥W/(2*tan(42°))，h为所述高度差，W为所述微图文笔画的宽度。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微图文笔画之间的区域为平坦区域，所述亚波长结构相对于该平坦区域凸起或凹陷。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微图文笔画之间的区域由随机散射结构形成，所述亚波长结构相对于该随机散射结构凸起或凹陷。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构的起伏范围为30nm至300nm。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构的周期范围为100nm至500nm。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述高度差的范围为0.3μm至3μm。

7.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样工具为微透镜阵列。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微透镜阵列为以下中的一者或任意组合：柱透镜阵列、球透镜阵列以及菲涅尔透镜阵列。

9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一镀层或所述第二镀层为能够产生颜色和/或颜色变化的干涉镀层。

10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一镀层或所述第二镀层为以下中的一者或任意组合：单层金属镀层、多层金属镀层、由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。

11.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述基材为由以下材料中的任意一者构成的对可见光透明的有色或无色薄膜：

聚对苯二甲酸二醇酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、金属、玻璃以及纸张。

12.一种光学防伪产品，其特征在于，包括根据权利要求1至11中任意一项权利要求所述的光学防伪元件。