[发明专利]光酸产生单体、自其衍生的聚合物、包括所述聚合物的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种具有以下结构的单体：

其中

R选自：

其中R¹为氢、氟基、氰基、C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；

X和Y在每次出现时独立地为氢或未取代的C_1-30烷基；

EWG1和EWG2在每次出现时独立地为卤原子、部分卤代的C_1-10烷基或全卤代C_1-10烷基；

p为1、2、3或4；

n为2、3或4；且

M⁺为有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的单体，其中EWG1和EWG2在每次出现时独立地为F、部分氟化C_1-10烷基或全氟化C_1-10烷基。

3.根据权利要求2所述的单体，其中EWG1和EWG2在每次出现时为F。

4.根据权利要求1所述的单体，其中EWG1和EWG2在每次出现时独立地为F或CF₃。

5.根据权利要求1所述的单体，其中R是

其中R¹为氢、氟基、氰基、C_1-10烷基或C_1-10氟烷基。

6.根据权利要求1所述的单体，其中p为1、2、3或4；且X和Y为氢。

7.根据权利要求1所述的单体，其由下式表示：

其中M⁺如权利要求1所定义。

8.一种聚合物，其包含衍生自根据权利要求1到7中任一项所述的单体的重复单元。

9.一种光致抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求8所述的聚合物。

10.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包含：

(a)在衬底上涂覆根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物的层以形成光致抗蚀剂层；

(b)将所述光致抗蚀剂层逐图案曝光至活化辐射以形成曝光的光致抗蚀剂层；和

(c)使所述曝光的光致抗蚀剂层显影以得到光致抗蚀剂浮雕图像。