[发明专利]光学防伪元件及使用该光学防伪元件的光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：

基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；

形成在所述第一表面上的微采样工具；以及

形成在所述第二表面的一个或多个微图文单元，所述微图文单元包括微图文笔画，该微图文笔画以非周期且非固定几何形状的形式排列，并且使得通过所述微采样工具观察所述第二表面能够观察到再现图像的立体的动画防伪特征。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：

在所述微图文笔画上同形覆盖的第一涂层；和/或

在所述第二表面的所述微图文笔画之间的区域上同形覆盖的第二涂层。

3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样工具为微透镜阵列。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微透镜阵列为以下中的一者或任意组合：柱透镜阵列、球透镜阵列、菲涅尔透镜阵列。

5.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微图文笔画由第一微浮雕结构形成，在该第一微浮雕结构上同形覆盖有所述第一涂层；以及

所述微图文笔画之间的区域为平坦区域，在该平坦区域上同形覆盖有所述第二涂层。

6.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微图文笔画由第一微浮雕结构形成，在该第一微浮雕结构上同形覆盖有所述第一涂层；以及

所述微图文笔画之间的区域由第二微浮雕结构形成，在该第二微浮雕结构上同形覆盖有所述第二涂层。

7.根据权利要求5或6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一微浮雕结构为以下中的一者或任意组合：周期在0.8μm至3μm的范围内的衍射光栅、周期在3μm至30μm的范围内的闪耀光栅、随机散射结构和周期在0.1μm至0.8μm范围内的亚波长光栅。

8.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第二微浮雕结构为随机散射结构。

9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：

在所述微图文笔画上同形覆盖的第一涂层，所述微图文笔画是平坦的或者由深宽比范围为0至0.3的微结构形成；以及

所述微图文笔画之间的区域未覆盖涂层，所述微图文笔画相对于所述微图文笔画之间的区域凸起。

10.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一涂层和/或所述第二涂层为以下中的一者或任意组合：单层金属镀层、多层金属镀层、由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。

11.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括在所述第一涂层和/或所述第二涂层的表面上至少部分覆盖的颜色层。

12.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一涂层为以下中的一者或任意组合：单层金属镀层、多层金属镀层、由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。

13.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括在所述第一涂层的表面上至少部分覆盖的颜色层。

14.根据权利要求11或13所述的光学防伪元件，其特征在于，所述颜色层的颜色为一种颜色或者为多种颜色的组合。