[发明专利]一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法有效
申请号: | 201710092401.8 | 申请日: | 2017-02-20 |
公开(公告)号: | CN106903424B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 刘文文;曹宇;张健;朱德华 | 申请(专利权)人: | 温州大学激光与光电智能制造研究院 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/352 |
代理公司: | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人: | 段秋玲 |
地址: | 325000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 力学性能 激光冲击波 抗激光损伤 后处理 薄膜元件 光学薄膜元件 光学元件 激光能量 附着力 膜层结合力 残余应力 力学特性 实验样品 影响规律 有效手段 高功率 递增 优化 | ||
1.一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)采用电子束蒸发镀制一批光学薄膜元件;任意选取一个光学薄膜元件作为被测样品,测量被测样品的残余应力R
(2)在被测样品上选择200个测试点,每20个测试点作为一个测试组;并选取10个不同的激光能量,作为10个测试组分别对应的激光能量,每个测试组内的所有测试点对应的激光能量相同;设定每个测试点的辐照脉冲数目均为N
(3)重新选取一个被测样品,将测试点的辐照脉冲数目改为N
(4)重复执行步骤(3),获得m个不同脉冲辐照数目下的初始损伤阈值F0和损伤生长阈值G0;其中,F0={F
⑸在步骤(1)中制作的一批光学薄膜元件中重新选取一组薄膜元件,在该组薄膜元件膜面粘贴吸收层;在吸收层的表面放置约束层,形成用于激光冲击波后处理的实验样品;
⑹将实验样品放置在电动平移台上,同时保证同一样品每次放置的位置都相同;使在线显微镜始终对准泵浦激光辐照实验样品的位置,用以实时检测后处理过程中实验样品、吸收层和约束层的状态;
⑺设定用于激光冲击波处理的泵浦激光器的初始入射激光能量E
⑻令实际入射激光能量E=E
⑼采用光栅扫描方式对样品进行一次激光冲击波扫描处理,使得薄膜元件表面微结构发生变化;
⑽去除薄膜样品表面残留的吸收层和约束层,并对薄膜样品进行喷淋和超声清洗,获得经过激光冲击波后处理的一组实验样品;
⑾利用该组实验样品分别测量经冲击波后处理后的残余应力R
⑿令i=i+1;判断i是否小于等于S,若是,转入步骤(5),若否,进入步骤(13);
⒀通过被测样品相同区域在泵浦激光器不同能量下的辐照,完成了对该实验样品多个能量梯度的激光冲击波后处理,并获得了S次激光冲击波后处理后薄膜元件力学性能变化特性,包括残余应力R
⒁改变初始入射激光能量E
2.根据权利要求1所述的基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法,其特征在于,步骤(14)后还可以包括:改变步骤(1)中的镀膜参数,重复步骤⑴~⒁,获得激光冲击波后处理对同一类型不同微结构的光学薄膜元件力学性能的提升规律。
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