[发明专利]用于浆态床反应器的气体分布装置及浆态床反应器在审

专利信息
申请号: 201710100890.7 申请日: 2017-02-23
公开(公告)号: CN106824020A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 刘周恩;史雪君;余海鹏;苏二强;李少雨;吴黎阳;黄伟;史东军;吴道洪 申请(专利权)人: 北京神雾环境能源科技集团股份有限公司
主分类号: B01J8/22 分类号: B01J8/22
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 代理人: 黄德海
地址: 102200 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 浆态床 反应器 气体 分布 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及浆态床反应器技术领域,尤其是涉及一种用于浆态床反应器的气体分布装置及浆态床反应器。

背景技术

浆态床反应器是一种重要的气-液-固多相反应装置,尤其适用于乙炔加氢制乙烯、费托合成等多相催化反应。一般地,浆态床反应器存在布气不均、固体颗粒沉积等缺点,这影响了浆态床反应器的釜体内物料反应的效果,严重时会造成生产无法进行而停工。

虽然,有的浆态床反应器解决了釜体内气体均布问题,但是却没能解固体颗粒的沉积问题,而且浆态床反应器的压损较大,能耗较高。另一些浆态床反应器虽然可以解决固体颗粒沉积问题,但是气体均布效果较差。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明提出一种用于浆态床反应器的气体分布装置,当气体分布装置应用在浆态床反应器上时,可实现均匀布气,且能有效地防止固体颗粒沉积。

本发明还提出一种浆态床反应器,包括上述的气体分布装置。

根据本发明实施例的用于浆态床反应器的气体分布装置,所述浆态床反应器包括釜体,所述气体分布装置包括:进气管,所述进气管具有进气口和出气口;均布件,所述均布件设在所述进气管上,所述均布件内设有气体通道,所述气体通道与所述出气口连通,所述气体通道的底壁上设有多个均气孔,所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布;扰流件,所述扰流件包括多个位于所述釜体内的喷气管,每个所述喷气管具有开口朝下的喷气口,每个所述喷气口位于所述均气孔的下方,每个所述喷气管通过伸出所述釜体的连接管路与所述进气管的位于所述釜体外的部分连通。

根据本发明实施例的用于浆态床反应器的气体分布装置,可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布,并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积的问题。

根据本发明的一些实施例,多个所述连接管路沿周向均匀间隔分布,每个所述喷气管设在相应的所述连接管路的底壁上。

可选地,每个所述喷气管竖直向下延伸。

根据本发明的一些实施例,每个所述连接管路上设有多个所述喷气管。

根据本发明的一些实施例,所述均布件包括多个环状的套环和多个连接杆,多个所述套环在径向方向上依次套设,每个所述套环的底壁上设有多个沿周向分布的所述均气孔,相邻的所述套环通过所述连接杆连通,位于最内侧的所述套环通过所述连接杆与所述进气管连通。

可选地,每个所述套环的两侧的多个所述连接杆在径向方向上分别一一正对设置。

可选地,每个所述套环上的多个所述均气孔沿周向均匀间隔分布。

根据本发明的一些实施例,所述均布件包括多个沿径向延伸的连通管路,每个所述连通管路设在所述进气管上以与所述进气管连通,每个所述连通管路上设有至少一个布气管,每个所述布气管的底壁上设有多个所述均气孔。

可选地,每个所述布气管水平延伸且与相应的所述连通管路垂直设置。

根据本发明实施例的浆态床反应器,包括:釜体;上述的气体分布装置,所述均布件和所述多个喷气管设在所述釜体内,所述进气管的进气口伸出所述釜体,每个所述连接管路伸出所述釜体并连接至所述进气管的位于所述釜体外的部分上。

根据本发明实施例的浆态床反应器,可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布,并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积问题。

附图说明

图1是根据发明一些实施例的浆态床反应器的示意图;

图2是根据本发明另一些实施例的浆态床反应器的示意图;

图3是根据图2所示的A-A方向的剖视图;

图4是根据图2所示的B-B方向的剖视图;

图5是根据图2所示的C-C方向的剖视图;

图6是根据本发明又一些实施例的浆态床反应器的示意图;

图7是根据图6所示的D-D方向的剖视图。

附图标记:

浆态床反应器1000;

气体分布装置100;进气管1;进气口11;出气口12;均布件2;气体通道21;均气孔211;套环22;连接杆23;连通管路24;布气管25;扰流件3;连接管路31;第一管段311;第二管段312;喷气管32;喷气口321;环形管33;

釜体200;排气口201。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。

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