[发明专利]一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用在审
申请号: | 201710101433.X | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106905512A | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 应磊;赵森;郭婷;杨伟;彭俊彪;曹镛 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 二芳杂环 单元 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物,其特征在于,化学结构式如下:
式中,Ar1为六元芳杂环;R为芳基、三苯胺、碳原子数1-20的直链或支链烷基、卤素、氰基、烷氧基或氟代烷氧基,或为碳原子数1-20的烷氧基;0≤x≤1;聚合度n=1-300。
2.根据权利要求1所述的一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物,其特征在于,Ar为如下结构中的任意一种:
2,7-取代芴;
3,6-取代芴;
2,7-取代硅芴;
3,6-取代硅芴;
2,7-取代螺芴;
3,6-取代螺芴;
2,7-取代-9,9-二烷氧基苯基芴;
3,6-取代-9,9-二烷氧基苯基芴;
2,7-取代咔唑;
3,6-取代咔唑;
2,6-取代-二噻吩并噻咯;
2,6-取代-二噻吩并环戊二烯;
2,5-取代吡啶;
2,6-取代吡啶;
3,5-取代吡啶;
3,5-双(4-取代-苯基)-4-基-1,2,4-三唑;
3,5-双(4-取代-苯基)-1,2,4-噁二唑;
4,7-双(5-取代-4-烷基噻吩基)-2,1,3-苯并噻二唑;
4,7-双(5-取代-4-烷基噻吩基)2,1,3-苯并硒二唑;
4,7-取代-5,6-烷基-2,1,3-苯并噻二唑;
4,7-取代-5,6-烷基-2,1,3-苯并硒二唑;
2,5-取代-3,4-二烷基噻吩;
2,5-取代-3,4-二烷基硒吩;
5,5-取代-4,4-二烷基-联噻吩;
茚芴;
吲哚咔唑;
4,9-取代-6,7-烷基-萘并噻二唑;
4,9-取代-6,7-烷基-萘并硒二唑;
萘并茚芴;
二喹喔啉并茚芴;
S,S-二氧二苯并噻吩;
其中,R1为氢、芳基、三苯胺、碳原子数1-20的直链或者支链烷基,或为碳原子数1-20的烷氧基。
3.权利要求1所述的一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
在氩气氛围下,将二芳杂环并茚芴单元与含Ar结构的硼酸酯单体通过Suzuki聚合反应后,再依次采用苯硼酸和溴苯进行封端反应,得到所述基于二芳杂环并茚芴单元单元的共轭聚合物。
4.根据权利要求3所述的一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物的制备方法,其特征在于,所述Suzuki聚合反应的温度为80~100℃,时间为24~48小时。
5.根据权利要求3所述的一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物的制备方法,其特征在于,采用苯硼酸和溴苯进行封端反应的温度均为80~100℃,时间均为12~24小时。
6.权利要求1所述的一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物应用于制备发光二极管的发光层,其特征在于,将基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物用有机溶剂溶解,再通过旋涂、喷墨打印或印刷成膜,得到所述发光二极管的发光层。
7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,所述有机溶剂包括氯苯。
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