[发明专利]结构体、以及图案形成方法在审

专利信息
申请号: 201710101586.4 申请日: 2017-02-24
公开(公告)号: CN107564802A 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 泽部智明;渡部彰;木原尚子;山本亮介 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L21/768
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 段承恩,李照明
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 结构 以及 图案 形成 方法
【说明书】:

本申请以日本专利申请2016-131484(申请日为2016年7月1日)为基础,根据该申请而主张优先权。本申请参照该申请,包含该申请的全部内容。

技术领域

本发明的实施方案涉及结构体、以及图案形成方法。

背景技术

例如,有多个粒子相互接触而排列的结构体。难以将多个粒子相互分离而排列。难以控制多个粒子的排列方向。

发明内容

本发明的实施方案提供能够将多个粒子相互分离而排列的结构体、以及图案形成方法。

根据本发明的实施方案,结构体包含多个粒子和基体。所述多个粒子相互分离。所述多个粒子分别含有设置在所述多个粒子各自的表面上的第1高分子。所述基体具备具有凸部和凹部的面。所述基体含有设置在所述面上的第2高分子。所述第2高分子与所述第1高分子不同。所述多个粒子被所述凸部支持,所述多个粒子与所述凹部分离。

根据上述技术构成的结构体,能够提供能将多个粒子相互分离而排列的结构体、以及图案形成方法。

附图说明

图1(a)~图1(d)是对第1实施方案涉及的结构体进行例示的示意图。

图2(a)~图2(c)是对第1实施方案涉及的结构体的制造方法进行例示的示意剖面图。

图3(a)~图3(d)是表示与结构体相关的实验的示意图。

图4(a)和图4(b)是对接触角进行例示的示意图。

图5是对第1实施方案涉及的另一结构体进行例示的示意俯视图。

图6是对第1实施方案涉及的另一结构体进行例示的示意俯视图。

图7是对第1实施方案涉及的另一结构体进行例示的示意俯视图。

图8是对第1实施方案涉及的另一结构体进行例示的示意俯视图。

图9是对第1实施方案涉及的另一结构体进行例示的示意俯视图。

图10(a)~图10(d)是表示与结构体相关的实验的示意图。

图11是对第2实施方案涉及的图案形成方法进行例示的流程图。

图12(a)~图12(f)是对第2实施方案涉及的图案形成方法进行例示的工序顺序示意剖面图。

附图标记说明

10…粒子,10C…核部,10L…液体,10PL…第1高分子,11~13…第1~第3粒子,11c~13c…第1~第3粒子中心,11i~13i…第1~第3中间区域,11n~13n…位点区域,18…溶液膜,20…基体,20C…基体核部,20PL…第2高分子,20b…结构部件,20bf…第1膜,20bg…第2膜,20d…凹部,20f…面,20h…孔,20p…凸部,20s…基板,20sa…第1部分区域,20sb…第2部分区域,21~26…第1~第6凸部区域,21c…第1凸部区域中心,22c…第2凸部区域中心,θ1、θ2…接触角,110~115…结构体,AA…箭头,L1~L3…第1~第3直线,SP1~SP6…第1~第6试料,d1、d2…距离,d20…距离,pr1~pr4…第1~第4凸部分区域,r1~r6…第1~第6位点区域,w1、w2…距离

具体实施方式

以下,参照附图对本发明的各实施方案进行说明。

附图是示意性或概念性的图示,因此各部分的厚度与宽度的关系、部分之间的大小比例等并不一定与现实相同。即使在表示相同部分的情况下,有时也会根据附图不同而表示出相互不同的尺寸、比例。

在本申请说明书和各图中,对于与前面附图相关的已经说明的部分同样的要素,附带相同标记并适当省略详细说明。

(第1实施方案)

图1(a)~图1(d)是对第1实施方案涉及的结构体进行例示的示意图。

图1(a)是从图1(b)的箭头AA观察的俯视图。图1(b)是图1(a)的A1-A2线剖面图。图1(c)是图1(a)的B1-B2线剖面图。图1(d)是图1(a)的C1-C2线剖面图。

如图1(a)~图1(d)所示,本实施方案涉及的结构体110包含多个粒子10和基体20。

多个粒子10相互分离。多个粒子10分别含有第1高分子10PL。在图1(a)中省略第1高分子10PL。第1高分子10PL被设置在多个粒子10各自的表面。

在该例中,多个粒子10分别还含有核部10C(参照图1(b)~图1(d))。第1高分子10PL被设置在核部10C的周围。例如,第1高分子10PL与核部10C的表面结合。例如,通过接枝聚合实现结合。例如,通过第1高分子10PL,核部10C相互分离而排列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710101586.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top