[发明专利]真空装置

权利要求书

1.一种真空装置，包括：被处理物载放部，该被处理物载放部配置于真空腔室的内部，具有载放被处理物的一个主面、及与所述一个主面相连接的侧面，且设置有多条在所述一个主面具有开口的槽；以及排气单元，该排气单元与所述真空腔室相连接，所述真空装置的特征在于，从所述一个主面侧观察所述被处理物载放部时，所述一个主面上的所述槽的开口的最短宽度为所述被处理物的最短宽度的一半以下。

2.如权利要求1所述的真空装置，其特征在于，

所述槽的一端到达所述被处理物载放部的侧面。

3.如权利要求1或2所述的真空装置，其特征在于，

所述槽设置为格子状。

4.如权利要求1至3的任一项所述的真空装置，其特征在于，

从所述一个主面侧观察所述被处理物载放部时，所述一个主面上的所述槽的开口的面积的总和为所述一个主面的面积的一半以下。

5.一种真空装置，包括：被处理物载放部，该被处理物载放部配置于真空腔室的内部，具有载放被处理物的一个主面、另一个主面、及与所述一个主面和所述另一个主面相连接的侧面，且设置有多处在所述一个主面具有开口的凹部；以及排气单元，该排气单元与所述真空腔室相连接，所述真空装置的特征在于，

所述被处理物载放部还包括流路，该流路至少在所述被处理物载放部的另一个主面以及侧面中的至少一个上具有开口，

所述凹部与所述流路相连接，

从所述一个主面侧观察所述被处理物载放部时，所述一个主面上的所述凹部的开口的最短宽度为所述被处理物的最短宽度的一半以下。

6.如权利要求5所述的真空装置，其特征在于，

从所述一个主面侧观察所述被处理物载放部时，所述一个主面上的所述凹部为槽状，

所述一个主面上的所述槽状的凹部的开口的最短宽度为所述被处理物的最短宽度的一半以下。

7.如权利要求5或6所述的真空装置，其特征在于，

从所述一个主面侧观察所述被处理物载放部时，所述一个主面上的所述凹部的开口的面积的总和为所述一个主面的面积的一半以下。

8.如权利要求1至7的任一项所述的真空装置，其特征在于，

所述被处理物的最短宽度为0.25mm以上2.5mm以下。