[发明专利]一种用于钽电容器的有序孔阵列阳极钽箔及其制备方法在审
申请号: | 201710104154.9 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106910635A | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 王振洋;张淑东;李年;张忠平;赵婷婷 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | H01G9/048 | 分类号: | H01G9/048;H01G9/15 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司34101 | 代理人: | 卢敏,何梅生 |
地址: | 230031 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 钽电容 有序 阵列 阳极 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于钽电容器的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:包括片状结构的钽片层,在所述钽片层的至少一个表面一体化形成有有序孔阵列。
2.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述有序孔阵列的面积小于或等于钽片层的表面积。
3.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述钽片层的厚度为5μm~2mm。
4.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述有序孔阵列中各孔的深度为1μm~50μm,孔直径为10~80μm。
5.一种权利要求1~4中任意一项所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:取钽片,用酒精清洗去除钽片表面的油污和灰尘;然后将钽片放在光学平台上,并用夹具定位、夹紧;最后调整激光器参数和光斑直径,控制激光束对钽片表面进行点扫描处理,即在钽片层表面一体化形成有序孔阵列。
6.根据权利要求5所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:对钽片表面进行点扫描处理时,调整所述激光器的能量范围为20~30w、扫描速度范围为500~1000mm/s、光斑直径为30~80μm、点间距30-100μm。
7.根据权利要求5或6所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:对钽片表面进行点扫描处理的处理区域为任意形状。
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