[发明专利]一种还原氧化石墨烯薄膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201710104395.3 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN106865528B | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王贤保;付洋;王刚 | 申请（专利权）人： | 湖北大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;F22B1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王加贵 |
| 地址： | 430000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 还原 氧化 石墨 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种还原氧化石墨烯薄膜的制备方法，包括以下步骤：
(1)将氧化石墨烯的水分散液冷冻后冷冻干燥，得到氧化石墨烯气凝胶；所述冷冻的温度为-10～-50℃；所述冷冻温度下保温的时间为1～48h；所述冷冻干燥的温度为-20～-70℃，冷冻干燥的时间为4～48h；
(2)将所述步骤(1)得到的氧化石墨烯气凝胶压片，得到氧化石墨烯薄膜；
(3)将所述步骤(2)得到的氧化石墨烯薄膜进行光照还原，得到还原氧化石墨烯薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)氧化石墨烯的水分散液中氧化石墨烯的质量浓度为2～10g/L。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中冷冻前还包括：将氧化石墨烯的水分散液与氨水混合。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述氨水的质量浓度为25～28％。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述氨水与氧化石墨烯的水分散液的体积比为1:1000～10000。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中光照的强度为800～10000W/m2，光照还原的相对湿度为30～70％，光照还原的时间为70～600s。
7.权利要求1～6任意一项所述制备方法制备的还原氧化石墨烯薄膜，比表面积为40～50m2/g。
8.根据权利要求7所述的还原氧化石墨烯薄膜，其特征在于，所述还原氧化石墨烯薄膜的厚度为1～50mm。
9.权利要求7或8所述还原氧化石墨烯薄膜的应用，将所述还原氧化石墨烯薄膜覆盖于待蒸发液体表面，光照得到太阳能蒸汽。
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