[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的第一金属层，所述第一金属层包括栅极和栅线；

位于所述第一金属层上的有源层；

位于所述栅极和栅线所在膜层上的像素电极；

位于所述有源层和所述像素电极上的第二金属层，所述第二金属层包括漏极、源极和数据线，其中，所述漏极与所述像素电极电性连接；

位于所述第二金属层上的公共电极层，所述公共电极层包括多个以阵列方式设置的公共电极块，所述公共电极块复用为触控电极；所述阵列基板还包括：

触控走线，位于所述第二金属层；所述触控走线与所述漏极、源极、数据线和像素电极电性绝缘，且通过过孔与所述公共电极层的公共电极块电性连接。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

第一绝缘层，位于所述第一金属层和所述有源层之间。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

第二绝缘层，位于所述公共电极层和所述第二金属层之间；所述第二绝缘层上设有过孔。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述漏极与所述像素电极直接电性连接。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控走线与所述数据线相邻设置，且所述触控走线与所述数据线平行。

6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1～5任一项所述的阵列基板。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示面板。

8.一种如权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成第一金属层，所述第一金属层包括栅极和栅线；

在所述第一金属层上形成有源层；

在所述栅极和栅线所在膜层上形成像素电极；

在所述有源层和所述像素电极上形成第二金属层和触控走线，其中，所述第二金属层包括漏极、源极和数据线，所述漏极与所述像素电极电性连接；

形成覆盖所述第二金属层的第二绝缘层，在所述第二绝缘层上形成过孔；

在所述第二金属层上形成公共电极层，其中，所述公共电极层包括多个以阵列方式设置的公共电极块，所述公共电极块复用为触控电极，所述公共电极块通过所述过孔与所述触控走线电性连接。

9.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述第一金属层和所述有源层之间形成第一绝缘层。

10.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述公共电极层和所述第二金属层之间形成第二绝缘层，并在所述第二绝缘层上形成过孔。

11.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述漏极与所述像素电极直接电性连接。

12.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述触控走线与所述数据线相邻设置，且所述触控走线与所述数据线平行。