[发明专利]显微镜系统有效
申请号: | 201710111862.5 | 申请日: | 2011-10-19 |
公开(公告)号: | CN106646841B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 大木裕史 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B21/06 | 分类号: | G02B21/06;G02B21/36;H05B37/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐健;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明光 成像光学系统 光调制元件 显微镜系统 样本 第一空间 图像传感器 照明光源 探测 照明光学系统 光学显微镜 共轭位置 光线照射 计算部件 输出数据 样本观测 透射光 光瞳 反射 照射 观测 图像 | ||
1.一种显微镜系统,该显微镜系统包括:
照明光源,向样本照射照明光;
成像光学系统,其对所述样本的透射光或反射光进行成像;
照明光学系统,其具有第一空间光调制元件,该第一空间光调制元件改变在所述成像光学系统的光瞳的共轭位置处的所述照明光的强度分布,该照明光学系统将源自所述照明光源的光线照射在所述样本上;
图像传感器,其探测通过所述成像光学系统的光线;
设定部件,所述设定部件对于所述样本的观测图像,设定以区域设定或波段设定为观测条件的参数;以及
计算部件,其在每次由所述第一空间光调制元件使所述照明光的强度分布改变时,对在使所述照明光的强度分布改变之后由所述图像传感器探测的输出数据与在使所述照明光的强度分布改变之前由所述图像传感器探测的输出数据进行比较,逐次地求出适于由所述设定部件作为观测条件设定的参数的所述照明光的强度分布。
2.根据权利要求1所述的显微镜系统,其中,
所述设定部件设定以空间频带设定为观测条件的参数。
3.根据权利要求1所述的显微镜系统,其中,
所述计算部件使所述照明光的强度分布改变以形成第一和第二照明光强度分布,并获取与其相应的第一和第二画面的输出数据,将这些所述第一和第二画面的输出数据作为初始数据而通过遗传算法来求出最适合的照明光强度分布。
4.根据权利要求2所述的显微镜系统,其中,
所述计算部件使所述照明光的强度分布改变以形成第一和第二照明光强度分布,并获取与其相应的第一和第二画面的输出数据,将这些所述第一和第二画面的输出数据作为初始数据而通过遗传算法来求出最适合的照明光强度分布。
5.根据权利要求3所述的显微镜系统,其中,
依据由至少一个用于每一代所述遗传算法的遗传算法所生成的照明光强度分布来改变所述照明光的强度分布,获取与其相应的画面的输出数据,且将该画面的输出数据使用于接下来的遗传算法的计算中。
6.根据权利要求4所述的显微镜系统,其中,
依据由至少一个用于每一代所述遗传算法的遗传算法所生成的照明光强度分布来改变所述照明光的强度分布,获取与其相应的画面的输出数据,且将该画面的输出数据使用于接下来的遗传算法的计算中。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的显微镜系统,其中,
所述计算部件基于由所述图像传感器探测的输出数据来计算所述样本的对比度或空间频率,并基于所述对比度或所述空间频率设定所述样本的观测区域。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的显微镜系统,其中,
所述第一空间光调制元件能够取单色且接近于点光源的状态,
所述图像传感器设置在所述成像光学系统的成像平面上,且在所述单色且点光源的照明条件下探测所述样本的画面的输出数据,
所述计算部件从所述照明条件和所述画面的输出数据来计算用于观测所述样本的所述照明光的强度分布。
9.根据权利要求7所述的显微镜系统,其中,
所述第一空间光调制元件能够取单色且接近于点光源的状态,
所述图像传感器设置在所述成像光学系统的成像平面上,且在所述单色且点光源的照明条件下探测所述样本的画面的输出数据,
所述计算部件从所述照明条件和所述画面的输出数据来计算用于观测所述样本的所述照明光的强度分布。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的显微镜系统,其中,
还包括设置在所述成像光学系统的光瞳位置处或在光瞳的共轭位置附近且在与所述第一空间光调制元件共轭的位置处的第二空间光调制元件,
所述第二空间光调制元件改变施加至透射光的附加相位的空间分布。
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