[发明专利]一种天线及通信设备有效
申请号: | 201710111992.9 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN108511888B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 丁峰;张坤;陈晓鑫 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H01Q1/38 | 分类号: | H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q1/48;H01Q21/06;H01Q21/00;H01Q23/00 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 王仲凯 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 天线 通信 设备 | ||
公开了一种天线及通信设备,用于提高天线的旁瓣抑制比。该天线包括:多根馈线、微带天线阵列和至少一个能量衰减电路;微带天线阵列包括多个阵列单元,多个阵列单元中的每个经由多根馈线中的一根与线缆馈电口相连;至少一个能量衰减电路中的各个能量衰减电路位于待衰减馈线处并将待衰减馈线分隔为两段,待衰减馈线为多根馈线中连接待衰减阵列单元的馈线,待衰减阵列单元为位于多个阵列单元中周边的阵列单元;能量衰减电路第一端经由待衰减馈线的一段与线缆馈电口相连,能量衰减电路第二端经由待衰减馈线的另一段与待衰减阵列单元相连,能量衰减电路第三端接地;能量衰减电路包括电阻,电阻接地,电阻用接地方式消耗掉待衰减馈线中的部分能量。
技术领域
本申请涉及微带天线技术领域,特别涉及一种天线及通信设备。
背景技术
微带天线(英文:microstrip antenna)指在印制电路板上使用微带技术制造的天线。常用的微带天线是在一个薄介质基(英文:dielectric substrate)(如聚四氟乙烯玻璃纤维层)上,一面附上金属箔作为接地板,另一面用光刻腐蚀等方法做出一定形状的金属贴片作为天线。
微带阵列天线是包括多个贴片天线的二维阵列。下面结合图1介绍一种4*4的微带天线阵列。
图1中所示的天线阵列属于均匀阵列,即各个天线单元之间的间距均匀分布,任意相邻的两个天线单元之间的距离相等。并且,馈线的也按照对称设计,走线均匀。
这种均匀阵列的天线可以实现阵列单元之间的能量均衡分配,也可以实现能量非均衡分配。当阵列单元的能量均衡分配时,这种天线的馈线走线简单清晰。但是,这种能量均衡分配的天线的旁瓣抑制(英文:side-lobe suppression,SLS)比不高,难以达到设计要求。
发明内容
本申请提供了一种天线及通信设备,可以提高天线的旁瓣抑制比。
第一方面,提供一种天线,包括:多根馈线、微带天线阵列和至少一个能量衰减电路。所述微带天线阵列包括多个阵列单元,所述多个阵列单元中的每个经由所述多根馈线中的一根与线缆馈电口相连。所述至少一个能量衰减电路中的各个能量衰减电路位于待衰减馈线处并将所述待衰减馈线分隔为两段,所述待衰减馈线为所述多根馈线中连接待衰减阵列单元的馈线,所述待衰减阵列单元为位于所述多个阵列单元中周边的阵列单元。所述能量衰减电路的第一端经由所述待衰减馈线的一段与所述线缆馈电口相连,所述能量衰减电路的第二端经由所述待衰减馈线的另一段与所述待衰减阵列单元相连,所述能量衰减电路的第三端接地。所述能量衰减电路包括电阻,所述电阻接地,所述电阻用于用接地方式消耗掉所述待衰减馈线中的部分能量。
由于能量衰减电路通过接地方式将能量消耗掉,使传输到位于天线阵列周边的阵列单元的能量非均衡分配的阵列单元减小,从而提高旁瓣抑制比。
可选的,上述能量衰减电路的输入等效阻抗和输出等效阻抗均等于待衰减馈线的特征阻抗,以使得插入的能量衰减电路不导致驻波的产生。
在第一方面的第一种可能的实现方式中,所述多个阵列单元排布为N*1阵列,所述多个阵列单元中周边的阵列单元为位于所述N*1阵列顶端的两个阵列单元;所述两个阵列单元中的每个阵列单元对应所述至少一个能量衰减电路中的一个能量衰减电路;其中N为大于等于3的整数。
结合第一方面及上述任一种可能的实现方式中,在第二种可能的实现方式中,所述多个阵列单元排布为N*M阵列,所述多个阵列单元中周边的阵列单元为位于所述N*M阵列顶角的四个阵列单元;所述四个阵列单元中的每个阵列单元对应所述至少一个能量衰减电路中的一个能量衰减电路;
其中N和M均为大于等于2的整数。N和M中的至少一个大于等于3。
结合第一方面及上述任一种可能的实现方式中,在第三种可能的实现方式中,所述至少一个能量衰减电路中的每一个为对称型电阻衰减器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710111992.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:照明吸引设备
- 下一篇:高泥质含量含油污泥深部调剖剂及其制备方法与应用