[发明专利]一种含一氟甲基的化合物、其制备方法及应用在审
| 申请号： | 201710117966.7 | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN107266275A | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 沈其龙;吕龙;刘亚飞;邵欣欣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海有机化学研究所 |
| 主分类号： | C07B39/00 | 分类号： | C07B39/00;C07B59/00;C07C319/14;C07C323/52;C07C41/16;C07C43/225;C07C201/12;C07C205/37;C07C45/64;C07C49/84;C07C67/31;C07C69/92;C07C253/30 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所31283 | 代理人： | 薛琦,陈卓 |
| 地址： | 200032 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 含一氟 甲基 化合物 制备 方法 应用 | ||
1.一种如式1所示的化合物：
其中，R11为取代或未取代的C6～10的芳基、取代或未取代的5～14元杂芳基、取代或未取代的C1～20的烷基、或者、取代或未取代的C1～20的杂烷基；
所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为下述基团中的一种或多种，所述的取代基的个数独立地为一个或多个：卤素、硝基、“被一个或多个R22取代或未取代的C6～10的芳基”、C1～20的烷基、C1～20的烷氧基、和卤素取代的C1～20的烷基；R16为C1～20的烷基；每个R22独立地为C1～20的烷氧基或硝基；
R12和R13独立地为C1～20的烷基；或者，R12、R13以及与两者相连的共同形成如所示的基团，其中，n为1、2或3，每个R14和R15独立地为氢、C1～20的烷基或苄基；
或，所述的化合物1中的一个或多个氢为氕、氘或氚。
2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，当所述的R11为取代或未取代的C6～10的芳基时，所述的“C6～10的芳基”为苯基或萘基；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的5～14元杂芳基时，所述的杂原子为O、S或N；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的5～14元杂芳基时，所述的杂原子的个数为1～3个；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的5～14元杂芳基时，所述的碳原子的个数为2～6个；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的C1～20的烷基时，所述的“C1～20的烷基”为C1～6的烷基或正十一烷基；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的C1～20的杂烷基时，所述的杂原子为O、S或N；
和/或，当所述的R11为取代或未取代的C1～20的杂烷基时，所述的杂原子的个数为1～3个；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为卤素时，所述的卤素为氟、氯、溴或碘；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为“被一个或多个R22取代或未取代的C6～10的芳基”时，“被一个或多个R22取代或未取代的C6～10的芳基”中所述的“C6～10的芳基”为苯基或萘基；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为C1～20的烷氧基时，所述的C1～20的烷氧基为C1～6的烷氧基；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为C1～20的烷基时，所述的C1～20的烷基为C1～6的烷基；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为“卤素取代的C1～20的烷基”时，所述的“卤素”为氟、氯、溴或碘；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为“卤素取代的C1～20的烷基”时，所述的“卤素”的个数为1～4个；
和/或，当所述的R11中，所述的“取代或未取代的C6～10的芳基”中的取代基、“取代或未取代的5～14元杂芳基”中的取代基、“取代或未取代的C1～20的烷基”中的取代基和“取代或未取代的C1～20的杂烷基”中的取代基独立地为“卤素取代的C1～20的烷基”时，所述的“C1～C20的烷基”为C1～C6的烷基；
和/或，当所述的R16为C1～20的烷基时，所述的“C1～20的烷基”为C1～6的烷基；
和/或，当所述的R22为C1～20的烷氧基时，所述的“C1～20的烷氧基”为C1～6的烷氧基；
和/或，当所述的R12和R13独立地为C1～20的烷基时，所述的“C1～20的烷基”为C1～6的烷基；
和/或，当所述的R14和R15独立地为C1～20的烷基时，所述的“C1～20的烷基”为C1～6的烷基。
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